SHINKUU真空设备型台式高真空沉积系统 VE-2013 北崎国际贸易（北京）有限公司

企业信息

第8年

产品目录

联系我们

联系人：彭厚芹

联系电话：010-67868591
移动电话：13910926753 13910916953 15510102388
公司地址：北京市朝阳区住邦2000商务中心1号楼A座406B
Email：phq@kitazaki.cn
公司网址：http://www.kitazaki.com.cn

产品详情

所在位置: 首页> 产品目录> SHINKUU真空设备>

查看大图

你添加了1件商品查看购物车

简单介绍：

VE-2013 是一种简化的真空沉积系统，继承了 VE-2030（由我们公司制造）的概念。紧凑的外壳，外壳中内置 TMP。由于它是桌面类型，因此不会占用太多空间。 RP 是落地式安装的。

详情介绍：

紧凑的TMP+RP排气系统以低廉的价格提供清洁的高真空气相沉积系统。消除了复杂的排气操作，它是一种全自动控制，只需打开/关闭触摸面板开关。

通过使用钨篮，可以气相沉积金、铝、铬、银等。对于碳沉积，使用夹式沉积枪类型使用特殊碳（SLC-30）沉积碳。（不能使用φ5mm碳棒。）

在购买时，我们将选择碳气相沉积电极或金属气相沉积电极。或者，可以购买额外的电极。

碳气相沉积电极

这是一种
专用的碳气相沉积电极。
它可以在高真空区域进行碳沉积，并且可以进行具有优异的薄膜质量和薄膜强度的碳沉积。
随附的防污罩将碳气相沉积的散射范围降至*低，并减轻了清洁负担。
碳气相沉积源是专用碳（SLC-30）。

金属气相沉积电极这是一种用于φ0.5mm钨篮的
金属气相沉积电极

。
金、铝、铬等的气相沉积可以轻松自如地进行。随附的防污盖*大限度地减少了沉积范围并减轻了清洁负担。

主要产品规格

标题：

内容：

联系人：

联系电话：

Email：

公司名称：

联系地址：

注：1.可以使用快捷键Alt+S或Ctrl+Enter发送信息!

2.如有必要,请您留下您的详细联系方式!

产品名称：SHINKUU真空设备型台式高真空沉积系统