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产品详情
  • 产品名称:SHINKUU真空设备磁控溅射和亲水处理

  • 产品型号:VES-10
  • 产品厂商:SHINKUU真空设备
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简单介绍:
本设备有两个独立的腔室,每个腔室具有碳气相沉积、磁控溅射和亲水处理等功能。 一台设备配备了我们的 VC-100S、MSP-1S 和 PIB-10 三种型号的性能。 两根排气管由外部旋转泵排气管切换。 此外,每个腔室可以独立抽真空并释放大气,腔室可以保持真空。
详情介绍:


碳气相沉积 这是一种用于
TEM、SEM、X射线分析等的碳膜生产设备。 它用于防止树脂包埋样品的充电。

离子溅射 这是一种用于
SEM观察的贵金属薄膜涂层专用设备。 进行贵金属涂层以防止SEM样品充电,提高二次电子生成效率。 除了磁控管靶电极的低压放电外,样品架还由浮动系统制成,以减少由于电子束流入而造成的样品损坏。

亲水处理
用于透射电子显微镜的网格网、火棉胶支撑膜、碳支撑膜等金刚石刀具的亲水处理,以及用于清洗油污和油渍。
通过交流放电将等离子体离子照射到样品表面。 它破坏样品表面的化学键并形成官能团。 因此,活性样品表面与水分子之间的化学键得到促进,并变得亲水。
此外,还可以破坏油脂污渍等化学键,获得去除污渍的效果。

辐照强度(SOFT/HARD)可以切换。


主要产品规格

项目 规范
权力 AC100V(单相100V15A)3P插头,带接地1件
旋转泵 抽水速度:50l/min 重量
:14.6kg
设备大小 宽 400mm,深 360mm,底座高 280mm 碳
腔高度 +185mm 离子
腔室高度 +101mm
(设备重量:29Kg)
碳气相沉积侧规格
试样室尺寸 内径 120 mm,高度 140 mm(硬玻璃)
气相沉积源 - 样品台间距 直径50mm(浮动方式)
电极与样品的间距 可在45mm~75mm范围内调节
试样载物台尺寸 Φ100毫米
可加载样本量 Φ98 mm,*大样品高度 40 mm
气相沉积电源 烘烤、排气、蒸发。
每个固定电压的 3 级切换,预设为*佳电压
离子室侧面规格
试样室尺寸 内径 120 mm,高度 65 mm(硬玻璃)
电极-样品台间距 35mm固定
试样底座尺寸 Φ50mm(浮动方式)
溅射靶电极 内置永磁体的磁控管型靶电极
目标金属规格 Φ51mm,厚度0.1mm
Pt,Pt-Pd,Au,Au-Pd,Ag
溅射电源 DC500V,0~50mA(可变电阻调节)
亲水处理电极 Φ50mm,SUS靶材
亲水处理电源 软:450V,10~20mA
硬:550V,20~30mA
(可选切换)



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