产品名称：JAI分析工业 输出气体集热器

SW-8400III.DF / SW-12400III.DF 硅片输出气体集热器

特点：
能够捕获硅片8英寸和6英寸表面的挥发性成分（有机污染物）。 （SW-8400IIIDF）
它可以收集硅片12英寸表面的挥发性成分（有机污染物）。 （SW-12400IIIDF）
由于采用捕获方法，因此没有死体积，并且可以检测到痕量成分。
从正面产生的气体被可靠地收集起来，从背面产生的气体通过真空泵完全释放。
晶圆直接加热，*高温度为500°C。 （烘烤时）
采用时序控制（触摸屏）。 更易于操作。

PAT（10 mL 内部容积，含 Tenax GR 吸附剂）标配除气。 可选地，它还与每个制造商的收集管兼容。
超温预防装置、门联锁机构、急停开关、漏水传感器（可选）等**措施已到位。
可选地，可以对样品管进行多级升温收集、分体式收集和电子冷却（在收集时）。

在这种方法中，硅晶圆（SW）的表面覆盖着顶板，仅收集表面的除气。
吹扫气体通过预热管路后，沿着烤盘（钟形顶板）的外壁流动，烤盘以钟形固定在烘箱顶部，从外周引导穿过SW面到中心。
SW的背面由真空泵吸入，因此SW背面产生的气体可以可靠地排出。

设备规格