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产品资料

电子束曝光设备

电子束曝光设备
  • 如果您对该产品感兴趣的话,可以
  • 产品名称:电子束曝光设备
  • 产品型号:EBL
  • 产品展商:其它品牌
  • 产品文档:无相关文档
简单介绍
具有高分辨率和高吞吐量的DFB激光二极管作为光通信器件的生产模式。 •光束直径:<3 nmΦ •*小线宽:20 nm •加速电压:50kV、30kV•舞台尺寸:6英寸晶圆模型 ◼ 1999年以来DFB-LD的重要通信技术。 ◼WDM的场大小调制。 ◼ 0.0012牛米螺距控制专用灵活软件。 ◼ 有15年以上DFB-LD铸造服务经验。 ◼ 经验丰富,市场占有率高。 ◼ 未来DFB-LD应用的技术优势。 ◼ 开发我们的系统是为了降低拥有成本。 ◼ 经验丰富,机器性能可靠。
产品描述








具有高分辨率和高吞吐量的DFB激光二极管作为光通信器件的生产模式。

•光束直径:<3 nmΦ

•*小线宽:20 nm

•加速电压:50kV、30kV•舞台尺寸:6英寸晶圆模型

◼ 1999年以来DFB-LD的重要通信技术。

◼WDM的场大小调制。

◼ 0.0012牛米螺距控制专用灵活软件。

◼ 有15年以上DFB-LD铸造服务经验。

◼ 经验丰富,市场占有率高。

◼ 未来DFB-LD应用的技术优势。

◼ 开发我们的系统是为了降低拥有成本。

◼ 经验丰富,机器性能可靠。

◼ 提供具有竞争力和*低芯片成本的生产。

✓*低投资成本(系统+公用设施+洁净室)

✓易损件寿命长

✓运行成本更低(维护成本更低)

光通信设备业务成果

➢自2017年以来,中国有6家(+1家)公司入选

➢在日本,自2000年以来,有3家公司选择批量生产。

➢在美国,自2011年以来,已有2家公司选择量产。

在电子束写入过程中控制0.01nm螺距的定制算法称为“场大小调制”。

应用于多个开发和DFB-LD生产至今!

CRESTEC开发了“光栅间距控制技术”

并与富士通一起实施,以期未来的业务。

为DFB-LD的生产和研发提供了<0.01nm的螺距控制技术。

DFB-LD制造的关键技术是变栅距控制。它是

由我们的技术(IP)组成。

对于FSM,我们所有的客户

控制频率特性

在生产过程中,**的螺距尺寸为0.01nm。



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