等离子清洗机常用频率区别与运用

等离子清洗机常用频率区别与运用

        等离子清洗机又称等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也称为物质的第四态，并不是常见的固、液、气三种状态。对气体施加足够的能量使其电离并成为等离子体状态。等离子体的“活性”成分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态核素（亚稳态）、光子等。等离子清洗剂利用这些活性成分的特性对样品表面进行处理，实现清洗、镀膜和其他目的。
        目前常用的等离子体激发频率有3种：40kHz、13.56MHz和2.45GHz。
         40kHz、13.56MHz和2.45GHz等离子体激发频率的区别：
        激发频率为40kHz的等离子体是超声波等离子体，发生的反应是物理反应；
        激发频率为13.56MHz的等离子体是射频等离子体，发生的反应既有物理反应，也有化学反应；
        激发频率为2.45GHz的等离子体是微波等离子体，发生的反应是化学反应。
         40kHz、13.56MHz和2.45GHz等离子激发频率应用：
        激发频率为40kHz的等离子体，即超声波等离子清洗是基于物理反应的等离子清洗，也称为溅射蚀刻（SPE）或离子铣削（IM），其优点是本身不发生化学反应，不残留氧化物清洁的表面，可以保持被清洁物体的化学纯度。超声波等离子清洗对被清洗表面的影响*大，所以实际半导体生产应用中多采用射频等离子清洗和微波等离子清洗。超声波等离子在表面去胶、毛刺抛光等处理中效果*好。典型的等离子体物理清洗工艺是等离子体清洗，其中将氩气加入反应室作为辅助处理。氩气本身是一种惰性气体。等离子体中的氩气不与表面反应，而是通过离子轰击清洁表面。
        激发频率为2.45GHz的等离子体，即微波等离子体，是典型的等离子体化学清洗工艺，即氧等离子体清洗。等离子体产生的氧自由基非常活跃，容易与碳氢化合物反应生成二氧化碳、一氧化碳、水和其他挥发性物质去除表面污染物。主要用于科学研究和实验室。
        激发频率为13.56MHz的等离子清洗在表面反应机理中的物理和化学反应中都起着重要作用，即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀。两种清洗方式可以相互促进，离子轰击使被清洗表面的损伤削弱其化学键或形成原子态，容易吸收反应物，离子碰撞加热被清洗物体，使反应更容易；