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Keithley4200-SCS
美国吉时利KEITHLEY参数分析仪4200-SCS研究应用领域:
半导体材料和器件的研发—传统的半导体和微电子专业
器件和工艺的参数监控—半导体工艺线,生产
器件的建模(Modeling)—半导体器件的设计,集成电路的设计
可靠性和寿命测试—半导体器件可靠性研究
高功率MOSFET,BJT和III-V族器件(GaN,GaAs)的特性分析
纳米器件研究;
光电子器件的研究(LED,OLED等);
非易挥发性存储器测试—Flash闪存,相变存储器(PRAM),铁电存储器(FeRAM),阻变存储器(RRAM)等;
有机半导体特性分析
太阳能电池及光伏电池特性分析
确定样品的电阻率和Hall载流子浓度
氧化层厚度、栅面积、串联电阻、平带电容、电压、开启电压、体掺杂、有效氧化层电荷密度、可动电荷、金属-半导体功函数、德拜长度、体电势等。
标准C-V扫描:普通MOSFET,二极管和电容器;
MOScap:测量MOS电容器上的C-V,提取参数包括氧化层电容,氧化层厚度,掺杂浓度,耗尽深度,德拜长度,平带电容,平带电压,体电势,阈值电压,金属半导体功函数,有效氧化层电荷;
MOSFET:对一个MOSFET器件进行一个C-V扫描。提取参数包括:氧化层厚度,氧化层电容,平带电容,平带电压,阈值电压,掺杂浓度与耗尽深度的函数关系;
寿命:确定产生速度并进行寿命测试(Zerbst图);
可动离子:使用BTS方法确定并提取平带电压参数确定可动电荷。包括对Hot Chuck热吸盘的控制。在室温下测试样品,然后加热后测试,然后再恢复至室温下以确定平带漂移电压,从而确定可动电荷;
电容:在金属-绝缘-金属(MIM)电容器上进行C-V扫描和C-f扫描,并计算出标准偏差;
PN结:测量P-N结或肖特及二极管的电容与其尖/端片置电压的函数关系;
光伏电池:测量一个发光太阳电池的正向和反向DC特性,提取参数,zui/大功率,zui/大电流,zui/大电压,短路电流,开路电压,效率。同时执行C-V和C-f扫描特性;
BJT:在端-端之间测量电容(OV偏置情况下),Cbe,Cbc,Cec;
接线电容:测量晶圆上小的互相接线之间的电容;
纳米线:在两端的纳米线器件上进行C-V扫描;
闪存:在一个典型的栅极悬浮闪存器件上进行C-V测量。
碳纳米管、生物芯片/器件、碳纳米管FET、纳米线、分子线、分子晶体管、多管脚纳米格
超快I-V的源和测量在很多技术领域变得越来越重要,包括化合物半导体,功率器件非易挥发性存储器,MEMS(微机电器件),纳米器件,太阳电池和CMOS器件。
脉冲I-V对器件进行特性分析可以实现用传统DC方法无法实现的任务,比如,对纳米器件的自热效应的克服,对于高K栅极电介质器件中因电荷陷阱效应而导致的磁滞效应般的电流漂移。
瞬态I-V测试使得科研人员来获取高速的电流或电压波形。脉冲信号源可用于器件可靠性中的应力测试,或者以多阶梯脉冲模式对存储器件的擦、写操作
通用的脉冲I-V器件测试
CMOS器件特性分析:电荷泵,自热效应,电荷陷阱,NBTI/PBTI分析
非易挥发性存储器:闪存,相变存储器
化合物半导体器件和材料:LED等
纳米器件和MEMS等