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日本MIKASA株式会社中国代理
日本MIKASA株式会社中国代理:MIKASA光刻机.旋轉塗佈機,真空泵日本MIKASA株式会社中国代理:MIKASA光刻机.旋轉塗佈機,真空泵日本MIKASA株式会社中国代理:MIKASA光刻机.旋轉塗佈機,真空泵日本MIKASA株式会社中国代理:MIKASA光刻机.旋轉塗佈機,真空泵
半导体制造工序中的 Mikasa 半导体设备
晶圆
洗涤
**晶圆表面的脏污及
各种金属离子
成膜
在高温扩散炉中,形成
表面氧化膜
电路图案设计
运用 CAD 制作布局、布线
设计图。
制作光掩膜
将电路图案冲印到中间掩
模上(原版照片)
光刻胶涂布
将光刻胶(感光材料)涂抹到晶
圆表面,形成厚度均一的薄膜。
旋转涂膜仪(P4~P11)
(密闭型)
(密闭型)
滴液装置 可选组件
吸盘
曝光
将光掩膜与晶圆重合,复制电路
图案。
光刻机(P13~P15)
可选组件
显影
去除曝光部位(正胶)的光刻胶。
显影装置(P17、18)
蚀刻
通过腐蚀氧化膜来蚀刻电路。
蚀刻装置(P19)
离子注入/溅射
向晶圆注入离子(混杂物)
后,形成半导体。为了形成
电极布线,需蒸镀晶圆表面
的铝粉,使其成为薄膜。
品质检查
完成
日本MIKASA旋转涂膜仪SpinCoater、
光刻胶涂布/
圆表面,形成厚度均一的薄膜。
![](http://yt.yzimgs.com/ComFolder/200088071/image/202210/202210291713816981.png)
● MS-B100/ MS-B150
● MS-B200
● MS-B300
● MS-B200(密闭型)
● MS-B300(密闭型)
![](http://yt.yzimgs.com/ComFolder/200088071/image/202210/202210291714012431.png)
日本MIKASA光刻机(P13~P15)
● MA-10
● MA-20
● MA-60F
● M-2LF
● M-1S
日本MIKASA显影、蚀刻装置DeveloperEtching
去除曝光部位(正胶)的光刻胶。
![](http://yt.yzimgs.com/ComFolder/200088071/image/202210/202210291714419631.png)
● AD-3000
●PD-1000
日本MIKASA蚀刻装置
![](http://yt.yzimgs.com/ComFolder/200088071/image/202210/202210291714413601.png)
●ED-1200
●ED-3000
日本MIKASA米卡萨半导体制造用小型装置:
备齐光刻胶涂布、曝光、显影、蚀刻等半导体制造前段工序所需要的装置后,提供一站式服务。另外,为旋转涂膜仪的所有机型准备了替代用机,可在发生故障时尽早应对,且在销售后提供快捷周到的售后服务。针对研究过程中所发生的一系列问题,也可在现场提出解决建议。与客户共同探讨在哪个工序出现了问题、应如何改进等等,从而得出解决建议。Mikasa 作为一个可在半导体方面进行共同商谈的咨询顾问,不仅销售设备,而是为客户半导体制造的整体工艺流程提供支持。