日本mikasa匀胶机MS-B150中国地区代理现货！

日期：2025-02-23 05:09

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摘要：日本Mikasa为半导体制造工序提供支持的Mikasa备齐光刻胶涂布、匀胶机，旋涂机，曝光、显影、蚀刻。旋涂仪、旋涂机、甩胶机、Mikasa匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、Mikasa旋转涂布机、旋转薄膜机、Mikasa旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、Mikasa匀膜机。

日本mikasa匀胶机MS-B150中国代理现货！

日本Mikasa为半导体制造工序提供支持的Mikasa备齐光刻胶涂布、曝光、显影、蚀刻等半导体制造前段工序所需要的装置后，提供一站式服务。另外，为旋转涂膜仪的所有机型准备了替代用机，可在发生故障时尽早应对，且在销售后提供快捷周到的售后服务。针对研究过程中所发生的一系列问题，也可在现场提出解决建议。与客户共同探讨在哪个工序出现了问题、应如何改进等等，从而得出解决建议。Mikasa 作为一个可在半导体方面进行共同商谈的咨询顾问不仅销售设备，而是为客户半导体制造的整体工艺流程。将光刻胶（感光材料）涂抹到晶圆表面，形成厚度均一的薄膜。

日本MIKASA旋转涂布机MS-A150/MS-B150产品规格：

*大电路板尺寸	φ6英寸晶圆或100×100mm基板
速度（转/分）	20~7，000
旋转精度	±1转/分（负载时）
发动机	交流伺服电机
盖	丙烯酸
旋转室直径	φ290毫米
步进模式数	100 步× 10 种模式
时间设置	999.9秒
**联锁	真空标准盖可选
滴水装置	选择
使用的真空压力	-0.08~-0.1兆帕
权力	交流100~240V 5A
外部尺寸（毫米）	352W×303H×432D
重量	16公斤

日本Mikasa为半导体制造工序提供支持的Mikasa备齐光刻胶涂布、曝光、显影、蚀刻等半导体制造前段工序所需要的装置后，晶圆涂抹提供一站式服务。

日本Mikasa 半导体用设备旋涂机。匀胶机

MS-B100

MS-B150

MS-B200

MS-B300

MS-B200

日本Mikasa半导体用设备密閉型MS-B300

日本Mikasa半导体用设备密閉型MA-20

MA-10B

MA-60F

M-2LF

M-1S

日本Mikasa半导体用设备

AD-1200

AD-3000

ED-1200

为半导体制造工序提供支持的Mikasa
备齐光刻胶涂布、曝光、显影、蚀刻等半导体制造前段工序所需要的装置后，提供一站式服务。另外，为旋转涂膜仪的所有机型准备了替代用机，可在发生故障时尽早应对，且在销售后提供快捷周到的售后服务。针对研究过程中所发生的一系列问题，也可在现场提出解决建议。与客户共同探讨在哪个工序出现了问题、应如何改进等等，从而得出解决建议。Mikasa 作为一个可在半导体方面进行共同商谈的咨询顾问，不仅销售设备，而是为客户半导体制造的整体工艺流程

晶圆→洗涤（**晶圆表面的脏污及各种金属离子）→成膜（在高温扩散炉中，形成表面氧化膜）→光刻胶涂布（将光刻胶（感光材料）涂抹到晶圆表面，形成厚度均一的薄膜）→曝光（将光掩膜与晶圆重合，复制电路图案）→显影（去除曝光部位（正胶）的光刻胶）→蚀刻（通过腐蚀氧化膜来蚀刻电路）

日本Mikasa为半导体制造工序提供支持的Mikasa备齐光刻胶涂布、匀胶机，旋涂机，曝光、显影、蚀刻。旋涂仪、旋涂机、甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机

日本mikasa匀胶机MS-B150中国代理现货！

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