日本AMAYA天谷 半导体、太阳能电池制造设备

社名：株式会社天谷製作所　（AMAYA CO.,LTD.）

所在地：越谷工場：〒343-0822 埼玉県越谷市西方3149-1
福生工場：〒197-0003 東京都福生市熊川1598
台湾事務所：台湾 台北市松山区復興北路369号 4F

主事業：半导体、太阳能电池制造设备等的制造和销售，以及此类设备的售后服务

主要产品：常压CVD设备、光掩模清洗设备等

近年来，物联网的发展非常显着，我们已经能够享受到无处不在的便捷服务。 该技术的核心是感知、获取、处理和分析大量数据的技术，为此，有必要加速引入传感器、人工智能和下一代高速通信等新技术**和技术，并且需要各种各样的半导体器件来支持这一点。

自1970年开始开发和销售常压CVD设备以来，我们为半导体制造和研发工艺的质量改进和生产率提高做出了贡献。 2010年，我们将这项技术扩展到太阳能电池，并作为常压CVD技术领域的专业人士继续接受挑战。

2019年，作为渡边商工集团业务重组的一部分，我们接管了Tomco株式会社的设备业务，并接管了光掩模清洁设备的制造和销售业务。
未来，作为常压CVD设备行业的利基***，我们将继续提供有助于提高客户制造和研发过程的质量和生产率的设备和服务，并将努力开发，制造和销售光掩模清洁设备等，从而通过半导体业务的发展为建设繁荣舒适的社会做出贡献。

常压CVD设备

<产品功能>

• 适用于半导体制造和太阳能电池制造等各种应用
• 从小批量生产到大批量生产
• 形成各种薄膜类型，如SiO 2，BPSG，BSG，PSG等。
• 通过使用碳化硅托盘防止重金属污染
• 可从低温 （200°C） 到中温 （500°C） 进行广泛的薄膜沉积

半导体制造设备

A200V单晶圆常压CVD装置    

特征

• 在这种方法中，晶圆沉积表面被上卡盘夹住，晶圆朝向底部，工艺气体从底部的分散头吹出形成薄膜。 卡盘提高了晶圆内温度均匀性，并提供出色的厚度均匀性，同时防止气体包围晶圆背面，防止背面沉积并防止颗粒粘附在晶圆上并进入腔室。
• 设备尺寸已尽可能紧凑，以*大程度地减少占用空间。
• 使用封闭腔室可消除气体泄漏并提高操作员的**性。

  AMAX800V8英寸连续常压CVD设备量产

• 8英寸 每小时 100 张的高吞吐量
• 使用SiC托盘的重金属污染对策和长期稳定的工艺
• 提高可维护性

AMAX120012“ 连续常压CVD机用于批量生产        

• 12 英寸 每小时 51 张的吞吐量
• 采用SiC托盘防止重金属污染的对策

 A6300S用于小直径晶圆连续生产的常压CVD设备

• 6 英寸 吞吐量为每小时 120 张
• 采用SiC托盘防止重金属污染的对策

定制设备

D501间歇式常压CVD机

太阳能电池设备

AMAX1000S125mm/156mm太阳能电池量产连续常压CVD设备

• 156 毫米方形 1500 张/小时吞吐量
• 采用SiC托盘防止重金属污染的对策，以及通过改善托盘支架防止背面环绕的措施

特征

• 可以使用满足太阳能电池生产需求的超批量生产设备运输156mm x 156mm方形基板和125mm x 125mm方形基板。
• 我们开发了可实现批量生产的专用分散头，以及实现超高速输送的双臂输送机构。 此外，还增加了灯管加热机构，以实现超高速和晶圆温度均匀性。
• 我们开发了一种特殊的晶圆支架，用于高效加热太阳能电池的薄晶圆。
• 卸料器部分使用多级Bernui卡盘来分离晶圆和托盘，并且还具有冷却功能。

玻璃基板沉积设备

用于刚性和柔性设备（如FPD）的常压CVD设备

• 低温（150~300°C）处理
• 高质量 SiO2 成膜低应力
  、等离子体损伤、小颗粒
• 占地面积小，降低了安装和维护成本
  ，无需真空或等离子处理
• 低价

光掩模清洗设备.

• 清洁溶液高速扩散到清洁表面
• 快速消除异物和反应产物
• 无水痕干燥

特征