日本HORIBA堀场株式会社：科学测量仪器

日本HORIBA堀场主要营业：汽车测量仪器、环境测量仪器、科学测量仪器、医疗测量仪器、半导体测量仪器的制造和销售。 制造和销售与分析和测量相关的外围设备。 与分析和测量相关的建筑业务、其他建筑业务以及与之相关的设备和设备的制造和销售

我们相信，我们的使命是通过应用高度构建的测量技术和**分析技术，提供高度原创的产品、分析和测量解决方案以及工程服务，为科学技术的发展、保护地球环境和实现可持续发展的社会做出贡献。 该业务将主要在能源与环境，生物与医疗保健以及材料和半导体领域发展，衍生产品和外围产品的商业化也将有助于科学技术的发展，改善社会生活的便利性以及保护全球环境。 它也绝不能侵犯人权。 在我们的业务活动中，我们将确保人员的**放在首位。 此外，我们的业务活动符合法律法规和公司章程，并建立并运营质量、环境、职业健康和**等管理体系。
我们将利用我们所有全球集团公司的优势，共享开发、生产、销售和服务的各个功能，努力以*佳交货时间为世界各地的客户提供具有更高附加值的产品和服务。 此外，为了详细响应客户的各种要求，我们将注重目标业务的选择，并希望通过高效，密集地投资业务资产，成为每个业务和产品领域的全球市场。

ORIBA激光粒度仪、HORIBA分析仪、HORIBA检测器、HORIBA分析仪

日本株式会社堀场制作所是一家跨国企业，1945年开始创业，1971年在大阪/京都所上市，公司总部位于日本京都。今天在范围内，遍布22个地区的43家公司组成的堀场集团，是分析与测量系统供应商；共有员工5146名。公司业务主要分为环境与科学、发动机测量、医疗和半导体四大领域。主要产品有红外碳硫仪、氧氮氢分析仪、汽车尾气分析设备、辉光光谱仪、ICP等离子发射光谱仪、烟气分析仪、油品分析仪等其它分析仪器，涉及冶金、环境、汽车、石油化工、有机材料等多个领域。

HORIBA 质量流量控制器 SEC-Z512MGX,流量1.5l/min

HORIBA 质量流量控制器 SEC-Z512MGX,流量10ml/min

HORIBA SIH4质量流量计 SEC-N112MGM（SIH4，3SLM)

HORIBA NH3质量流量计 SEC-N122MGM(NH3，10SLM)

HORIBA N2质量流量计 SEC-N122MGR(N2，30SLM)

HORIBA 串口通讯板 3014062735

日本HORIBA堀场 科学测量仪器 如下：

日本HORIBA堀场株式会社：科学测量仪器 拉曼光谱

Jobin Yvon是光谱学领域的先驱，其200年的历史是光学领域真正的技术**史。 今天有许多不同类型的光栅，但毫不夸张地说，以Jobin Yvon的技术为后盾的HORIBA光栅是先驱。 HORIBA 还擅长光学设计，因此根据应用，我们可以在内部进行一致的设计，从光栅的设计到配备它的光谱仪。 该技术用于 HORIBA 的各种光谱仪，如今我们已经确立了自己作为拉曼光谱仪全球**公司的地位。

LC-拉曼系统 LC-拉曼系统软件LiChRa™   原子力显微镜拉曼光谱原子力显微镜（AFM）-拉曼光谱集成系统 

原子力显微镜拉曼光谱 原子力显微镜（AFM）-拉曼光谱集成系统  拉布拉姆太阳酒店拉曼成像系统

XploRA™ PLUS拉曼显微镜 LabRAM HR Evolution INV倒置显微镜激光拉曼光谱系统 标准显微镜光谱系统显微光谱系统

日本HORIBA堀场株式会社：科学测量仪器 颗粒测量

粉末和细颗粒已广泛应用于陶瓷、功能聚合物、食品、化妆品、制药、化学工业、半导体、催化剂、电池材料和生命科学等许多工业和学术领域的研发和质量控制，并为工业发展做出了贡献。
为了了解各种颗粒的特性，粒径分布（粒径分布）、纳米粒径分布、zeta电位、分子量、图像分析等颗粒测量是必不可少的。

HORIBA 的 Partica 系列激光衍射/散射粒度分布测量系统在粒度分布测量方面一直处于****地位，**着先进材料的研发和质量的提高。 根据客户的反馈，我们将继续不断发展。

帕蒂卡 LA-960V2【粒度分布】激光衍射/散射粒度分布测量装置LA-960系列  帕蒂卡迷你LA-350激光衍射/散射粒度分布测量装置（粒度分布）

纳米帕蒂卡SZ-100V2系列纳米颗粒分析仪  视图调整器3000纳米粒度分布及浓度测量装置

帕蒂卡离心机离心式纳米颗粒分析仪

日本HORIBA堀场株式会社：科学测量仪器 帕蒂卡 LA-960V2 配件

日本HORIBA堀场株式会社：科学测量仪器 纳米帕蒂卡SZ-100V2配件

日本HORIBA堀场株式会社：科学测量仪器 X射线荧光

日本HORIBA堀场X射线荧光光谱法是一种根据X射线照射样品时产生的X射线的能量和强度来分析物质的组成元素和组成比例的方法。 荧光X射线的能量是为每个元素确定的。 X射线荧光的强度也与构成样品的元素数量有关。 X射线还具有很高的穿透材料的能力，适用于固体，液体和粉末的无损分析。

日本HORIBA堀场碳和硫分析/氧气、氮气和氢气分析

日本HORIBA堀场碳硫分析仪

日本HORIBA堀场氧气、氮气和氢气分析仪

日本HORIBA堀场马库斯高频辉光放电发光表面分析（GD-OES）

• 从*外层到贱金属，即使是微米级也可以在几分钟内进行分析。
• 可以高灵敏度深入分析元素谱。
• 可以从 H、C、N 和 O 到 U 等轻元素进行多元素同时分析。 其中，它的特点是能够测量B，Li和F等元素。
• 由于无需样品制备，并且可以在大气中进行样品引入，因此从样品设置到测量完成只需几分钟。
• 由于它是一种高频辉光放电方法，因此可以测量玻璃和陶瓷等非导电样品，从而扩大了要测量的材料范围。
• 间歇溅射容易受到热损伤。 有机薄膜和玻璃也可以以高分辨率进行测量。

日本HORIBA堀场ICP-OES光谱仪满足各种复杂样品测试需求

HORIBA科学仪器部开发和制造高性能和定制的ICP-OES光谱仪已超过35年。ICP-OES作为元素分析仪器的一部分，为您的特定需求提供解决方案，包括手套箱中的ICP，与ETV（Electro....）耦合的ICP和与电化学池耦合的ICP等。

日本HORIBA堀场椭圆偏振光谱法

什么是椭圆偏振光谱仪和椭圆仪？

椭圆偏振光谱（SE）测量每个波长的入射光和反射光之间的偏振变化量，根据获得的测量数据创建光学模型，并执行拟合计算以减小厚度（d�）和光学常数（折射率）n�、消光系数k�这是一种寻求非破坏性和非接触式方法的分析方法。 使用这种分析方法的仪器称为椭圆光谱仪。 半个多世纪以来，椭圆仪一直用于半导体工业和光学镀膜，主要用作测量单层薄膜厚度的方法。 自20世纪末以来，椭圆光谱仪已被取代，不仅可以获得单层薄膜厚度测量，还可以获得大量的体积和薄膜信息，例如多层结构的薄膜厚度，光学常数，样品表面的粗糙度和界面条件。

椭圆偏振光谱法能分辨出什么

在椭圆偏振光谱法中，体积、表面粗糙度、薄膜厚度、光学常数（n�&k�此外，作为薄膜材料的材料特性，可以获得很多信息，如界面状态、结晶度、成分、光学带隙、光学各向异性、电学性质（电阻率、迁移率、载流子密度）和深度定向均匀性。 此外，不仅可以评估固体，还可以评估液体的光学常数和液体中的液-固界面。

薄膜厚度	光学常数	材料属性
薄膜层（Å~几十μm） 表面氧化层 粗糙度层 接口层等	折射率（n�） 消光系数 （k�）（ 吸收系数 （α�））	光带隙 结晶速率 组成 电气特性 光学各向异性等

椭圆偏振光谱的特点

• 非破坏性和非接触式薄膜厚度测量和薄膜质量评估
• 高灵敏度测量，可灵敏地捕获表面状况的微小变化
• 厚度可达数Å超薄膜~数十μm厚的薄膜
• 评估单层和多层结构的膜厚和光学常数
• 一次确定未知材料的薄膜厚度和光学常数。
• 与反射强度无关
• 即使对于表面粗糙度（粗糙度）较大的样品，也可以进行测量
• 液体的光学常数评估
• 液体中的液固界面评估

椭圆偏振光谱仪应用和应用

• 硅半导体和化合物半导体
• 显示
• 能源
• 化学和材料特性
• 金属
• 生物/生命科学
• 光学和阻隔涂层等

它不仅用于加快研发速度，还用于提高产量和质量控制。