企业信息
第8年
- 入驻时间： 2017-03-06
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产品详情
简单介绍：
FPAR-1000AS
OTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径
FPAR和自动取景器的组合中，关于50检体的试料，可以进行粒子直径的自动测量。
样品量为1ml，可以使用廉价的电筒进行测量。
OTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径FPAR-100
详情介绍：
FPAR-1000AS
OTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径FPAR-1000AS
OTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径
样品量为1ml，可以使用廉价的电筒进行测量。
特长：
通过使用自动取款机，可以自动连续测量试料50个。
从稀薄的溶液到浓厚溶液，可以测量在广泛的浓度范围内的高速、高精度的粒子径、粒子直径分布（粒径、粒径分布）。
在研究·质量管理的广泛用途上使用微粒子特有的分散、凝集过程的功能等。
根据新开发的测量程序，对应于浓厚溶液中高精度的粒子直径测量。
将样本温调、超声波洗净等所有必要的功能全部内置的A3尺寸的紧凑设计。
測定項目
| 粒子径 |
| 3 nm ～ 5000nm |
| 1 nm ～ 5000nm （高感度仕様） |
|
キュムラント平均粒子径 ヒストグラム平均粒子径（D50）（高感度仕様） |
| 分布解析 |
|
CONTIN法 MARQUARDT法 NNLS法 CUMULANT法 |
|
対応濃度範囲 （標準ラテックス 204nm の場合） |
| 0.001 ～ 10 % |
|
濃厚系プローブ（標準） 0.01 ～ 10 % |
|
希薄系プローブ（オプション） 0.001 ～ 0.01 % |
应用领域
色材工业中的颜料・墨水的分散・凝集控制·粒子径管理。
陶瓷拉拉力的分散・凝集控制、分散剂效果
半导体领域的研磨粒子的粒子直径管理
高分子·化学工业中的艾玛约翰、拉特克斯的分散凝集控制、粒子直径管理
医药品・食品乙醇的分散・凝集控制、利波索等粒子直径管理
光催化（氧化钛）粒子的分散状态管理
FPAR-1000仕様
| 光源 | 半導体レーザー | |||
| 検出器 | 光電子増倍管（フォトンカウンティング方式） | |||
| サンプル温調範囲 | 10 ～ 70℃ | |||
| 温調方式 | 電子式冷却素子、ヒーター | |||
| プローブ洗浄方式 | 超音波洗浄 | |||
| 電源 | AC100V ± 10%50/60Hz 300VA | |||
| 寸法（WDH） | 320（W)×507（D)×284（H) | |||
| 重量 | 約 22 kg | |||
オートサンプラー仕様
| サンプルバイアル |
円筒形セル（蓋つき） サンプル容量 1 ～ 2.5 ml |
|||
| サンプルバイアル数 | 一度に 50本 まで搭載可能 | |||
| 温調 | ヒータ・ペルチェ方式 | |||
| サンプル温調範囲 | 15～40℃ | |||
| 測定濃度範囲 | 0.001% ～ 10% （FPAR-1000と接続時） | |||
