产品名称：OTSUKA大冢-反射性的分钟光膜厚计FE-3000

FE-3000
   OTSUKA大冢-反射性的分钟光膜厚计

特长：
通过从紫外到近红外区域的反射光，可以进行多层膜的膜厚测量·光学常数分析的光干涉式膜厚计.。
通过分光法的采用，能够进行非接触·非破坏且高精度再现性的膜厚测量。
适用于较宽的波长范围(190nm~1600nm)。
对应从薄膜到厚膜的广泛测定范围。(1nm到1mm)。
通过微小点(*小φ3μm)的测定，对应有图案和不均匀的样品。


测量项目。
优良的反射率测量。
膜厚的解析。
光学常数分析(n:折射率，k:衰退计数)。


用途。
功能性薄膜、塑料。
透明导电膜(ITO、银纳米线)、相差膜、偏振膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、保护膜、外壳。防指纹剂。
半导体，化合物半导体。
Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、引线帧、SOI、Sapphire等。
表面的处理。
DLC涂层、防锈剂、防阴剂等。
光学材料。
镜头、过滤器、AR外套等。
FPD。
LCD(CF、ITO、LC、PI、PS)、OLED(有机膜、填充剂)等。
其他。
硬盘、磁带、建材等

大塚電子では、光干渉法と自社製高精度分光光度計により、非接触・非破壊かつ高速高精度な膜厚測定を可能にしています。光干渉法は、図2のような分光光度計を利用した光学系によって得られた反射率を用いて光学的膜厚を求める方法です。図1のように金属基板上にコーティングされた膜を例にとると、対象サンプル上方から入射した光は膜の表面で反射します（R1）。さらに膜を透過した光が基板（金属）や膜界面で反射します（R2）。このときの光路差による位相のずれによって起こる光干渉現象を測定し、得られた反射スペクトルと屈折率から膜厚を演算する方法を光干渉法と呼びます。解析手法は、ピークバレイ法、周波数解析法、非線形*小二乗法、*適化法の4種類があります。