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  • 产品名称:OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000

  • 产品型号:FPAR-1000
  • 产品厂商:OTSUKA大塚电子
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简单介绍:
FPAR-1000 OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统 从稀薄系到浓厚系,在广泛的浓度区域中的粒子直径测量 *适合分析胶体分散液和拉拉力的分散状态。 OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000
详情介绍:

OTSUKA大冢- 光纤光学动态光散射光度计FDLS-3000
   OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统

从稀薄系到浓厚系,在广泛的浓度区域中的粒子直径测量
                                            *适合分析胶体分散液和拉拉力的分散状态。
特长:
OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000
从稀薄的溶液到浓厚溶液,可以测量在广泛的浓度范围内的高速、高精度的粒子径、粒子直径分布(粒径、粒径分布)。

在研究·质量管理的广泛用途上使用微粒子特有的分散、凝集过程的功能等。

根据新开发的测量程序,对应于浓厚溶液中高精度的粒子直径测量。

将样本温调、超声波洗净等所有必要的功能全部内置的A3尺寸的紧凑设计。


測定項目
粒子径
3 nm ~ 5000nm
1 nm ~ 5000nm (高感度仕様)
キュムラント平均粒子径
ヒストグラム平均粒子径(D50)(高感度仕様)
分布解析
CONTIN法
MARQUARDT法
NNLS法
CUMULANT法

 

対応濃度範囲
(標準ラテックス
204nm の場合)
0.001 ~ 10 %
濃厚系プローブ(標準)
0.01 ~ 10 %
希薄系プローブ(オプション)
0.001 ~ 0.01 %
応用分野
  • 色材工業における顔料・インクの分散・凝集制御・粒子径管理。
  • セラミックススラリーの分散・凝集制御、分散剤効果
  • 半導体分野の研磨粒子の粒子径管理
  • 高分子・化学工業におけるエマルジョン、ラテックスの分散凝集制御、粒子径管理
  • 医薬品・食品エマルジョンの分散・凝集制御、リポソームなどの粒子径管理
  • 光触媒(酸化チタン)粒子の分散状態管理

仕 様
光源 半導体レーザー
検出器 光電子増倍管(フォトンカウンティング方式)
サンプル温調範囲 10 ~ 70℃
温調方式 電子式冷却素子、ヒーター
プローブ洗浄方式 超音波洗浄
電源 AC100V ± 10%50/60Hz 300VA
寸法(WDH) 320(W)×507(D)×284(H)
重量 約 22 kg


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