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第8年
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产品详情
简单介绍:
卧式低压化学气相沉积炉管
卧式低压化学气相沉积炉管用于沉积高品质的n型掺杂或非掺杂的多晶硅或非晶硅;用于沉积高品质的低应力氮化硅或氮氧化硅。
详情介绍:
卧式低压化学气相沉积炉管
产品简介
用于沉积高品质的n型掺杂或非掺杂的多晶硅或非晶硅;用于沉积高品质的低应力氮化硅或氮氧化硅。
主要技术指标
炉管1:N型多晶硅以及非晶硅薄膜沉积工艺
气体:高纯N2、SiH4、PH3
炉管2:低应力氮化硅,氮氧化硅薄膜
气体:高纯N2、NH3、N2O、SiH2Cl2
温度:700-900 °C
硅片尺寸:3英寸、4英寸、6英寸圆片;50片/炉
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