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公司新闻

日本日立HITACHI超高分辨场发射扫描电子显微镜Regulus系列的详细介绍

沿用"SU8200系列"的冷场发射电子枪*2
采用电子束在Flashing后出现的高亮度稳定区域作为稳定观察的区间，使得低加速电压条件下兼备高分辨观察和分析的佳性能
与现有机型相比分辨率提高了20％左右
(Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV)
采用污染小、高真空样品仓
运用能量过滤器(选配)，可观察到多种成分对比度*2

极低着陆电压下高分辨观察
样品：金颗粒
着陆电压：10 V

超高分辨观察
样品：Pt催化剂
加速电压：30 kV

低加速电压下高分辨EDX分析
样品：Sn球
着陆电压：1.5 kV

项目	Regulus 8100	Regulus 8220	Regulus 8230	Regulus 8240
二次电子分辨率	0.8 nm （加速电压15 kV） 1.1 nm （着陆电压1 kV）*3	0.7 nm（加速电压 15 kV） 0.9 nm（着陆电压 1 kV）*3
着陆电压	0.1～2 kV	0.01～20 kV
放大倍率	20～1,000,000倍*4	20～2,000,000倍*4
样品台	样品台控制	3轴马达台（可选5轴马达台）	5轴马达驱动
移动范围	X	0～50 mm	0～50 mm	0～110 mm	0～110 mm
Y	0～50 mm	0～50 mm	0～110 mm	0～80 mm
R	360°
T	-5～70°
Z	1.5～30 mm	1.5～40 mm
再现性	-	-	-	±0.5 µm以下含±0.5 µm

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