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陶瓷加热器技术设计原则

在评论陶瓷加热器系统的好坏时，主要还是要看在整个加热操作时，是否以辐射加热为主要方式，以传导对流加热为辅，辐射加热占有比例越大，说明系统的性能越好。

经过陶瓷加热器对大量烘道、烘箱热能转换效率的测定、理论上的研究。在80年代中期提出了辨别辐射烘道的2个方法：

①测定烘道内空间温度、元件表面温度，只有T空间<T元件20℃至40℃时，烘道才被称为辐射烘道，当元件符合远红外节电条件时，称为远红外烘道。

②改流水作业为静态烘烤，若未出现漆膜不均匀现象时，才能被称为辐射烘道，否则不能称为远红外加热。

在历经多年的研究、实践探讨过程后，研究人员总结出远红外烘道，烘箱的以下3条设计原则：

①均匀辐射场设计：在保证陶瓷加热器工件不管在什么位置上，表面所接受的辐射能为均匀状态。均匀辐射场设计是利用辐射光学原理，计算出一组数据，即：元件排列方式、元件间隔、反射罩形式、元件与工件距离。从而摆脱元件间隔100mm至350mm，元件与工件距离50mm至400mm的定性设计。

②均匀匀温度场设计：为避免烘道内均匀温度场被破坏，应让烘道内的所有温度差都保持在±5～10℃范围内。

③均匀控温技术设计：采用通断式控温而导致陶瓷加热器局部温度波动大。晶闸管调压可降低元件的辐射，增加对流作用。因此应采用调功器控温，进而让远红外技术达到理想状态。

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