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陶瓷加热器技术设计原则

   在评论陶瓷加热器系统的好坏时,主要还是要看在整个加热操作时,是否以辐射加热为主要方式,以传导对流加热为辅,辐射加热占有比例越大,说明系统的性能越好。
    经过陶瓷加热器对大量烘道、烘箱热能转换效率的测定、理论上的研究。在80年代中期提出了辨别辐射烘道的2个方法:
    ①测定烘道内空间温度、元件表面温度,只有T空间<T元件20℃至40℃时,烘道才被称为辐射烘道,当元件符合远红外节电条件时,称为远红外烘道。
    ②改流水作业为静态烘烤,若未出现漆膜不均匀现象时,才能被称为辐射烘道,否则不能称为远红外加热。
    在历经多年的研究、实践探讨过程后,研究人员总结出远红外烘道,烘箱的以下3条设计原则:
    ①均匀辐射场设计:在保证陶瓷加热器工件不管在什么位置上,表面所接受的辐射能为均匀状态。均匀辐射场设计是利用辐射光学原理,计算出一组数据,即:元件排列方式、元件间隔、反射罩形式、元件与工件距离。从而摆脱元件间隔100mm至350mm,元件与工件距离50mm至400mm的定性设计。
    ②均匀匀温度场设计:为避免烘道内均匀温度场被破坏,应让烘道内的所有温度差都保持在±5~10℃范围内。
    ③均匀控温技术设计:采用通断式控温而导致陶瓷加热器局部温度波动大。晶闸管调压可降低元件的辐射,增加对流作用。因此应采用调功器控温,进而让远红外技术达到理想状态。 

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