腐蚀性气体中的微量水分析仪（露点仪）如何选择

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   近几年我国多晶硅行业发展速度较快，受益于多晶硅行业生产技术不断提高以及下游需求市场不断扩大，多晶硅行业在国内和国际市场上发展形势都十分看好。虽然受金融危机影响使得多晶硅行业近两年发展速度略有减缓，但随着我国国民经济的快速发展以及国际金融危机的逐渐消退，我国多晶硅行业重新迎来良好的发展机遇。进入2010年我国多晶硅行业面临新的发展形势，由于新进入企业不断增多，上游原材料价格持续上涨，导致行业利润降低，因此我国多晶硅行业市场竞争也日趋激烈。面对这一现状，多晶硅行业业内企业都开始积极应对，注重培养创新能力，不断提高自身生产技术，加强企业竞争优势，不断学习该行业*新生产技术，以使企业立于不败之地。

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    目前多晶硅生产技术在国内主要是以改良西门子法—闭环式三氯氢硅氢还原法是用氯气和氢气合成氯化氢为主，氯化氢和工业硅粉在一定的温度下合成三氯氢，然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯，提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行CVD反应生产高纯多晶硅。然而，游离氧和水分对合成反应极为有害，因为Si-O键比Si-Cl更为稳定，反应产物极易发生氧化和水解，使SiHCl3的产率降低，水解生成的硅胶会堵塞管道，使操作困难，水解产生的盐酸对设备有强烈的腐蚀作用。游离氧或水分还能在硅表面逐渐形成致密的氧化膜，影响正常反应的进行，同时多晶硅生产过程存在大量Cl2、HCl等腐蚀性气体，气体中含有的水分超标时就会形成盐酸等腐蚀性物质。为了防止水含量超标腐蚀生产设备，确保设备长期可靠地运行，必须对某些过程气中水含量进行实时监测。多晶硅生产企业要针对防腐的需要，实时检测氢中微量水、氯中微量水、氯化氢总管中微量水等，一旦检测到水含量超标，微量水分析仪将发出报警信号，提醒操作人员检查生产运行情况，为此，必须对生产过程中的微量氧和微量水实时监控。

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    德国CMC微量水分析仪仪器是全球微量水检测技术的***，其研发部门针对多晶硅生产工艺研发出了新一代微量水分析仪。因为多晶硅生产工艺的特殊性，气体中往往含有腐蚀性Cl2、HCl气体，这就对微量水分析仪的传感器提出了很好的要求，德国CMC微量水分析仪采用五氧化二磷传感器利用电解水分子为氢气与氧气原理，此传感器由一个玻璃材质的圆柱和两根并行的电极组成，根据具体应用来选择电极材质（通常由铂或铑金属丝制成），并在两根电极之间涂有很薄的一层磷酸H3PO4膜层，在两电极之间出现的电解电流，使酸中的水分分解为H2和O2，此过程的*终产物是五氧化二磷，P2O5是高吸湿性物质，因此从样气中吸收水分，通过连续的电解过程，在样气的水分含量与电解后的水分之间建立平衡，电解电流与样气中水分含量成比例，信号经过仪器内部信号放大器处理，然后显示并数据读出。此原理适合分析Xe、Ar、Kr、He、D2、F2、N2、H2、O2、O3、HBr、PH3、SF6、Freon、 C2H2、CO2、CH4、Natural gas，尤其适合高纯酸气如Cl2、HCl、SO2、H2S 等气体微量水分测量（极少数会同磷酸发生化学反应的气体除外）。同时其优良的制造工艺结合先进的微电子处理技术，使得德国CMC微量水分析仪和微量氧分析仪成为了多晶硅生产行业的**选择。腐蚀性气体中的微量水分析仪（露点仪）如何选择腐蚀性气体氧分析仪

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