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箱式真空钼丝炉结构说明与技术参数
日期：2024-06-27 01:05
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摘要：
箱式真空钼丝炉设备主要用在大专院校、科研单位及生产企业在真空或保护气氛条件下对材料进行烧结处理。立式结构，适用于金属材料在高真空，高温条件下进行退火、钎焊、烧结、除气处理，同时也适用于石英材料的脱羟处理。
箱式真空钼丝炉结构说明
此设备由炉体、真空系统及电气控制系统等组成。
炉盖、炉体及炉底均采用双层水冷结构，炉壳温度不超过50℃。测温采用钨铼热电偶，保证了测温精度。真空系统采用二级泵或三级泵，如客户有要求可增加分子泵。电器元件均为品牌产品，所用程序仪表，客户可自行设定程序，自动完成烧结过程。
主要技术参数
本设备温度范围：室温~1600℃
真空度：10-3Pa
其它参数（工作区尺寸、真空度等）根据客户工艺及要求来制作
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