产品详情
简单介绍：
该设备主要是用于半导体材料、纳米材料、光线材料等在氢气保护下的各种复杂工艺，具有多种工艺气体的流量控制。是科研、数学、生产、新材料研发的重要设备。
详情介绍：
设备简介：
氢气炉用工业微机对工艺时间、温度、气体流量、阀门动作、反应室压库和实现自动控制。采用进口压力控制系统，闭环控制、稳定性高。采用进口耐腐蚀不锈钢管件、阀门确保气路气密性。具有完善的报警功能及**互锁装置。具有良好的人机界面，灵活的工艺性能。
主要技术参数：
氢气炉的控制精度：±1℃，工作温度：800-1700℃，温度均匀性：±5℃，保护气体：H2、N2。*大真空度：-0.1Mpa，炉膛尺寸：160×166马蹄形管（可定制），电网电压：380V±10%，*大功率：≤80KW，炉门、进出料口材质：310不锈钢。冷却系统分置：出料口及加热炉体两侧微电脑控制,操作方便，可编程，自动升温，自动保温，自动降温。报警功能：超温报警、断水报警、断电保护，温控方式：自动/手动。进料方式：电动/手动，可通多种气体(氧气、氮气、氩气、氢气等)。
备注：可选配系统：1、自动泄压进气系统；2、混气供气系统；3、真空机组；4、USB接口，无纸记录仪，随机打印系统；5、坩埚；6、进口1900型材料。
备注：我公司可定制各种非标气氛管式炉，不同炉膛尺寸、不同温度范围内的箱式炉，气氛炉，管式炉，真空炉等。欢迎来电洽谈。
