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磁控溅射镀膜仪简介
日期:2024-09-02 06:12
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摘要:
磁控溅射镀膜仪简介
磁控溅射镀膜仪是一种用于化学、材料科学、冶金工程技术、物理学领域的工艺试验仪器,于2006年12月30日启用。
磁控溅射镀膜仪是一种用于化学、材料科学、冶金工程技术、物理学领域的工艺试验仪器,于2006年12月30日启用。
技术指标
1、磁控溅射镀膜仪主真空室的本底真空优于2×10-8Torr;2、四英寸的基片范围内薄膜厚度均匀性优于±2%;3、可以溅射磁性和非磁性金属、进行直流和射频溅射;4、基片可以加热(800℃)、冷却(水冷);5、全自动控制;6、18英寸主溅射室;7、高真空泵抽系统;8、超高真空磁控溅射靶;直流/射频电源;9、4英寸样品台;10、PhaseII-J控制系统。
主要功能
纳米磁性薄膜制备设备,可以制备纳米磁性薄膜,能加热,共五个靶位。
尊敬的客户:
本公司还有流延涂布机、三靶磁控溅射、小型行星真空搅拌机等产品,您可以通过网页拨打本公司的服务电话了解更多产品的详细信息,至善至美的服务是我们的追求,欢迎新老客户放心选购自己心仪产品,我们将竭诚为您服务!