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TN-MSP300S-2RF 双靶射频磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。可用于制备单层或多层陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。
特点:
1. 磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选购;2. 两个射频电源,300w-1000W射频电源可用于非金属薄膜的制备,两个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。
3. 高精度质量流量计,客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路,以满足复杂的气体环境构建需求;
4. 涡轮分子泵组,极限真空可达10E-5Pa,同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制,可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品,大大提高了您的工作效率。
5.一体机工控电脑对系统进行控制,在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能,可以进一步提高您的实验效率。
技术参数:
型号
TN-MSP300S-2RF
供电电压
AC220V,50Hz
整机功率
6KW
极限真空度
5*10-4Pa
样品台
尺寸:φ150mm
加热温度:500℃ max.;控温精度:+-1℃
转速:1-20rpm 可调节
磁控溅射头
尺寸:2英寸,数量:2;冷却方式:水冷 所需流速10L/min
水冷机:10L/min 循环水冷
真空腔体
尺寸:φ300mm*340mm;材料:不锈钢
观察窗:φ100mm;开启方式:上顶开启,便于更换靶材
气体流量控制
1路,200sccm ,Ar
真空泵
分子泵组,抽速600L/S
溅射电源
两台 射频电源 500-1000W 可选
膜厚仪
石英振动薄膜测厚仪一台,分辨率0.10 Å
操作方式
一体机电脑操作
整机尺寸
1090mm X 900mm X 1250mm
整机重量
350kg
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