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  • 产品名称:HORIBA堀场现场安装式钙离子计

  • 产品型号:HC-200CA 系列
  • 产品厂商:HORIBA堀场
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简单介绍:
用于处理半导体生产中的氢氟酸废水。
详情介绍:

通过持续监测罐中的钙离子浓度,有助于减少废水处理过程中的化学品使用量。通过优化化学品的使用,降低了运行成本和结垢风险,从而有助于工厂的稳定运行。

 

Ca2+


稳定的测量

使用离子选择电极可以稳定监测钙离子浓度。

降低运行成本

通过根据废水处理状态控制化学品,可以减少化学品消耗。

减少对环境的影响

通过降低钙离子过量导致油泥和水垢产生的风险,有助于减少工业废弃物。


■表示转换器式样

发射机型号 HC-200CA 系列
传感器型号 CA-2000:钙离子传感器
传感器芯片型号 7695:钙离子芯片,7211:参考芯片
测量范围 钙离子浓度:10 至 4000 mg/L(显示范围:0 至 4000 mg/L)
温度:0 至 40 °C(显示范围:-10 至 110 °C)
测量条件 pH 值:5 至 11
样本 CaF 顶部透明层中的水2半导体制造设施的氟化物酸废水处理中的沉淀池。
浓度 2+:200 至 600 毫克/升,
SO
42-:200 至 700 mg/L,pH 值:5 至 11
温度 25 至 40 °C
传导率 10 至 20 毫秒/厘米
如果用于其他用途,可能会导致测量值不稳定、电极寿命缩短等。请联系 HORIBA。
可用范围选项 100.0、1000、4000 毫克/升
显示分辨率 钙离子浓度:0.1 mg/L:0.0 至 100.0 mg/L、1 mg/L:0 至 1000 mg/L、10 mg/L:0 至 4000 mg/L
※这取决于设定的范围。
温度:0.1 °C
重复性 钙离子浓度:读数的 ±10% (标准溶液)
温度:±0.3 °C (等效输入)
温度补偿 兼容温度元件:铂电阻:1 kΩ (0 °C)
温度测量范围:0 至 40 °C
温度校准:1 点校准,用于与参考温度计进行比较
校准 标准溶液校准(2 分)
选择 1 至 10 mg/L、10 至 100 mg/L 或 100 至 1000 mg/L
调整 使用手动分析(1 点)、标准曲线输入功能(线性功能)进行样品调整
自检 校准错误、传感器诊断错误、发射机错误
传输输出 3 点 4 至 20 mA DC,输入/输出隔离型 *大负载电阻 900 Ω
输出1:钙离子浓度:可在测量范围内任意设定。
输出2:温度:可在-10至110°C范围内任意设定。
错误输出:具有燃尽功能(可从 3.8 mA 和 21 mA 中选择设置)
保持功能:可从*新值保持和预设值保持中选择
触点输出 3 点 无电压触点输出 继电器触点、SPST(1a)、SPDT(1c)
信号 R1、R2:可在上限警报、下限警报、传输输出保持
时、清洁输出(警报动作时关闭、正常情况下和断电状态下打开)
中选择 FAIL:可以设置超出测量范围的值的错误警报和自检输出。
延迟时间:0 至 600 秒
清洁输出 1 点电压接点输出(连接电源电压输出) 继电器接点 SPDT (1a)
接点功能:清洗控制用电磁阀
联系人输入 集电极
开路用 1 点无电压 “a” 触点触点功能:从清洗动作的外部输入和 HOLD 输入传输输出中选择
通讯功能 RS-485 2 线制,与输入电路
隔离 不与传输电路隔离
工作温度范围 -20 至 55 °C(不冻结)
电源 额定电源电压:AC 100 至 240 V ±10% 50/60 Hz,功耗:25 VA(max)
结构 防护等级:IP65, 安装方式:50 A 杆式或壁挂式,
外壳材料:铝合金, 引擎盖和安装支架材料:SUS304
质量 主机:约3.5 kg 遮光罩、安装支架:约 1 kg
合规标准 CE 标志、FCC 规则
可滚动

■探头规格

传感器单元型号 CA-2000 系列
样品条件 0 至 40 °C(不冻结)
测量深度 0 至 10 m
接液材料 SUS316、FKM、PVC
质量 约 2.7 kg(包括 10 m 电缆)
组合支架 插入式
组合式清洗装置 超声波、空气喷射
可滚动

■消耗品

零件名称
7695 钙离子芯片
7211 参考芯片
L-CA-10 系列 10 mg/L 校准溶液
L-CA-100 系列 100 mg/L 校准溶液
L-CA-1000 系列 1000 mg/L 校准溶液
编号 C-7211 连接帽



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