广州微纳光刻材料科技有限公司

广州微纳光刻材料科技有限公司创立于2020年，是广东省内**家专业开发90nm-28nm制程**半导体芯片制造用193nm光刻胶及相关材料的高科技公司，为中芯国际、广州粤芯公司等客户定制光刻胶。
本公司的ArF国产光刻胶研发项目始于2016年，创始人首先在珠海横琴创立的光刻胶树脂公司自主研发，配方在上海、北京等地的客户生产线的ASML光刻机上（90nm、55nm、28nm）进行了大量的评估，其ArF光刻胶的关键技术指标，如DOF等，已超过现有头部梯队商用产品，在国内处于**地位。总部设立于广州黄埔区（开发区），并在珠海、上海设有研发中心和实验室。

团队简介：

技术团队以原英特尔出身的博士为核心，进行光刻胶材料研发；有和博士合作多年的日本**光刻胶工艺技术专家，负责生产工艺和质量管控；两位原中芯国际光刻部门的光刻专家负责曝光评估和市场策划；核心成员在光刻胶材料开发和应用方面拥有丰富经验；团队中有**财务和法务顾问，负责风险管理；运营模式按照国际光刻胶和半导体公司进行；公司已选定浙江嘉兴与广东新丰工厂两座符合**生产标准的工厂进行代工生产，严格按照SPC进行生产和质量管理。

产品介绍：

广微纳公司已经注册“纳刻”商标，形成了纳刻系列的光刻胶产品。本公司光刻胶技术100%在本土研发，具有完全的自主知识产权。其中在ArF光刻胶系列，有性能优异的ArF干法光刻胶。经过中芯北京55 nm 节点产线评测，结果为DOF大于300 nm@ 81 nm L/S，优于现有商用ArF干法光刻胶。
原材料方面：公司对产品中使用的ArF感光树脂树脂和光敏剂的**技术拥有使用权。所有光刻胶原材料由珠海公司提供，保证了排他性的竞争力。

**介绍：

ArF光刻胶中国发明**2项（由珠海公司作为无形资产投资），覆盖了90nm-28nm的线型光刻胶和孔洞型光刻胶的配方，于2021年3月取得了“一种能够用于90~60nm半导体制程的ArF光刻胶及其制备方法于应用”**授权，**号ZL 201910388389.4

公司发展现状及规划：

广微纳公司现已具备一定资本规模（注册资本1亿元，到位1290万）和**技术水平，建立了与相适应的技术开发、生产运营，品质管理、市场开拓、客户服务，形成规模化生产能力，实现ArF光刻胶的开发、国产替代，填补国内**光刻胶材料产品的空白。目前，本司ArF光刻胶加仑样品正提供客户进行测试。 未来公司产品技术将为半导体客户进行量身定制，以提高良率和拓宽工艺窗口为目的，为客户提供高性能的光刻胶

江崎目前已获得CCS晰写速、SEN日森、EYE岩崎、USHIO牛尾、FUNATECH船越龙、HIKARIYA光屋、SERIC索莱克、REVOX莱宝克斯、ORIHARA折原、SONIC索尼克、YUASA尤安萨、EYELA东京理化、SANKO三高、NEWKON新光、HEIDON新东科学、TAKASAGO高沙、MITUTOYO三丰、JIKCO吉高、NPM日脉、AND艾安德、ONOSOKKI小野、PISCO碧铄科、TOPCON拓普康、NDK电波工业、STANLEY史丹利、HIOS好握速、SATA世达、HAKKO白光、TOHNICHI东日、NITTO KOHKI日东工器等多家品牌授权认证。                                  

   主要合作客户有：关西涂料（ALESCO）、欧菲科技（O-film）、泰晶科技（TKD）、中芯国际(SMIC), 京东方(BOE) ,华星光电(CSOT),天马（TIANMA）, 柔宇（ROYOLE） 丰田（TOYOTA）, SUZUKI(铃木），比亚迪（BYD）,大疆（DJI），艾华集团(AISHI）；骏马精密（ZAMA）三一重工（SANY）,中联重科（ZOOMLION）等，凭借专业销售代理的经验，成熟的产品，赢得了广大客户的信任。    

   江西省江崎贸易有限公司会恪守“诚信、品质、快速、贴心”的服务宗旨，不断提升专业的技术服务水平，与客户及供应商实现共同发展。通过减少中间环节，并提供便利的配送服务，将实惠和安心送到每一个客户的手中。

京都玉崎株式会社-中部子公司

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2023.11.30