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产品资料

小型高频溅射装置 RFS-201

小型高频溅射装置 RFS-201
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简单介绍
小型高频溅射装置 RFS-201
产品描述

小型高频溅射装置 RFS-201


※图片为旧型

特 性是装载了RF电源的小型高周波溅射装置。因为可以为金属、半导体、绝缘物体成膜,所以*适合用于基础研究开发等实验。 应 用1.紧凑且易于移动。2.TMP 实现高速排气。3.可通过流量控制阀连续控制进气4.适当的预溅射

规格参数

型 号
RFS-201
真空性能
极限压力
6.6 × 10-4Pa
排气时间
6.6 × 10-3Pa/5min
真空舱
真空舱
金属舱 (200mm(W)×250mm(D)×150mm(H))
阴极
直径80mm 1 电极
标准基板
直径80mm × t1-5mm
溅射有效区域
直径50mm
溅射速度
SiO2, 成膜速度大于 20nm/min
膜厚分布
SiO2, 在 ±8%直径50mm
基板加热
*大 350 ℃
电极距离
30mm – 50mm (可变)
排气系统
主泵
油扩散泵(水冷) 150 L/sec
液氮冷阱
可选
前级泵
油旋片真空泵 100 L/min
油雾过滤器
油雾过滤器 OMT-100A
操作系统
主阀门
瓣阀
副阀门
三向切换阀
自动渗漏阀
可选
控制
手动控制
控制系统
射频电源
*大 300W(変量:0 - 300W)
皮拉尼真空计
G-TRAN
电离真空计
可选
外形
尺寸
764mm(W)× 723mm(D)× 1648mm(H)
重量
260kg

条件

型 号
RFS-201
电源需求
单相, 50/60Hz, 200V, 2.8kVA
接地端子
A级(接地抗阻/10Ω 或更低)
用水需求
5.0L/min (水温:低于25℃、水压:200-300kPa)
附件(电源)
乙烯绝缘软电缆(R2-5 帯端子) 4m
附件(接地)
地线(铜板) 4m
附件(冷却水)
蒂托轮编织软管 (内径9mm × 外径15mm) 4m(2根)

外形图

真空室内部构造

[1]真空室[2]靶材电极[3]基板电极[4]开闭器[5]电流导入端子[6]热电偶接线端子[7]真空计孔[8]取样托盘[9]背板[10]靶材[11]服务端口[12]前门

可选部件


 液氮冷阱
 电离真空计
 磁控管
 直线过滤器(管道连接类型油雾过滤器)OMI-100
 涡轮分子泵
 直流电源
 导入气体(2、3 根)
 油旋片真空泵用自动渗漏阀


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