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- 产品名称：MIR反射式刻线衍射光栅
- 产品型号：QX-MIR-GL
- 产品展商：擎轩科技
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- 发布时间：2019-01-01
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简单介绍
MIR反射式刻线衍射光栅的详细信息
品牌：其他型号：QX-MIR-GL材质：Pyrex基底适用范围：激光用途：激光装箱数：1000加工定制：是外形尺寸：25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mmmm重量：0.01㎏尺寸：25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mmGrooves/mm：450Design Wavelength：3.1 µmBlaze Angle：32°Dispersion (nm/mrad)：1.6
产品描述
MIR反射式刻线衍射光栅
特性· 设计波长：3.1 µm、3.5 µm、10.6 µm
· 设计波长处的偏振效率：80%到95%
· 低重影：小于主反射的0.5%
· 反射铝膜
· Pyrex基底，75到450刻线/mm
· 使用刻线的基底材料生产
· 损伤阈值：
o 连续波激光：250 W/cm2
o 脉冲激光器：3.5 J/cm2 (200 ns脉冲)
QXKJ提供多种优化中红外区域峰值偏振效率的刻划衍射光栅。我们提供不同闪耀角的光栅，适合多种应用。欲了解不同光栅类型的差异，请点击上方光栅指南标签。
这些光栅用于在常见分子激光波长下获得峰值偏振效率，因此与标准的刻划衍射光栅(紫外、可见和近红外刻划光栅)不同。对于这些光栅，凹槽闪耀角不等同于Littrow配置角，后者优化了光栅效率，用于非偏振光。因此，Littrow配置的反射光栅的标准公式也不再适用。
请注意，这些光栅的反射铝膜是裸露的，而且没有保护镀膜。但是可以定制MgF2或金膜来保护光栅的铝膜表面。金膜在红外波段的性能更好，而MgF2膜提供*佳保护性；详情请咨询技术支持。
注意光栅很容易被潮湿、指纹、气溶胶或任意摩擦材料的轻微接触而损伤。光栅只能在必要时才拿取，而且只能通过边缘夹持。应佩戴橡胶手套或类似的防护套，以防止手指上的油污接触光栅表面。清洁时只能使用净化的干燥空气或氮气吹扫光栅，其它任何操作都是不允许的。溶剂很可能会损伤光栅表面。
反射式衍射光栅，设计波长3.1 µm
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Dimensions (W x H x D)
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Design
Wavelength
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Grooves/mm
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Blaze Angle
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Dispersion
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12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
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3.1 µm
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450
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32°
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1.6 nm/mrad
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25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
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反射式衍射光栅，设计波长3.5 µm
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Dimensions (W x H x D)
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Design
Wavelength
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Grooves/mm
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Blaze Angle
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Dispersion
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12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
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3.5 µm
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300
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26.5°
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2.86 nm/mrad
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25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
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反射式衍射光栅，设计波长10.6 µm
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Dimensions (W x H x D)
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Design
Wavelength
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Grooves/mm
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Blaze Angle
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Dispersion
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12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
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10.6 µm
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75
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21°
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12.3 nm/mrad
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25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
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12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
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100
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27°
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8.5 nm/mrad
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25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
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12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
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150
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35°
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4.2 nm/mrad
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25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
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