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技术文章

各种滤光片镀膜技术

蒸发沉积

在蒸发沉积时，真空室中的源材料受到加热或电子束轰击而蒸发。蒸气冷凝在光学表面上。在蒸发期间，通过**控制加热，真空压力，基板定位和旋转可以制造出具有特定厚度的均匀光学镀膜。蒸发具有相对温和的性质，会使镀膜变得松散或多孔。这种松散的镀膜具有吸水性，改变了膜层的有效折射率，将导致性能降低。通过离子束辅助沉积技术可以增强蒸发镀膜，在该过程中，离子束会对准基片表面。这增加了源材料相对光学表面的粘附性，产生更多应力，使得镀膜更致密，更耐久。

离子束溅射（IBS）

在离子束溅射（IBS）时，高能电场可以加速离子束。这种加速度使得离子具有显着的动能。在与源材料撞击时，离子束会将靶材的原子“溅射”出来。这些被溅射出来的靶材离子（原子受电离区影响变为离子）也具有动能，会在与光学表面接触时产生致密的膜。 IBS是一种**的，重复性强的技术。

等离子体溅射

等离子体溅射是一系列技术的总称，例如上等等离子体溅射和磁控管溅射。不管是哪种技术，都包括等离子体的产生。等离子体中的离子经加速射入源材料中，撞击松散的能量源离子，然后溅射到目标光学元件上。虽然不同类型的等离子体溅射具有其独特的性质和优缺点，不过我们可以将这些技术集合在一起，因为它们具有共同的工作原理，它们之间的差异，相比这种镀膜技术与本文中涉及的其他镀膜技术之间的差异小得多。

原子层沉积

与蒸发沉积不同，用于原子层沉积（ALD）的源材料不需要从固体中蒸发出来，而是直接以气体的形式存在。尽管该技术使用的是气体，真空室中仍然需要很高的温度。在ALD过程中，气相前驱体通过非重叠式的脉冲进行传递，且脉冲具有自限制性。这种工艺拥有独特的化学性设计，每个脉冲只粘附一层，并且对光学件表面的几何形状没有特殊要求。因此这种工艺使得我们可以高度的对镀层厚度和设计进行控制，但是会降低沉积的速率。

上海卷柔新技术光电有限公司是一家专业研发生产光学仪器及其零配件的高科技企业，公司成立２００５年，专业的光电镀膜公司，公司产品主要涉及光学仪器及其零配件的研发和加工；光学透镜、反射镜、棱镜等光学镀膜产品的开发和生产，为全球客户提供上等的产品和服务。采用德国薄膜制备工艺，形成了一套具有严格工艺标准的闭环式流程技术制备体系，能够制备各种超高性能光学薄膜，包括红外薄膜、增透膜，ARcoating, 激光薄膜、特种薄膜、紫外薄膜、x射线薄膜，应用领域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、医用激光器、红外制导、面部识别、VR/AR应用,博物馆，低反射橱窗玻璃，画框等。

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