光谱钨灯光源
光学测量分析可见红外光源
（超长寿命10000H/可见、近红外、中红外300-9000nm）
稳定型光源提供恒定强度的黑体辐射光谱，波长范围可选300 到2600nm、450 到5500nm或500 到9000nm。它采用了内部反馈系统，可以实现高稳定功率输出。优越性能适合于需要高准确性和稳定性的应用，如测量透过率和反射率。
所有光源型号都有一个集成滤光片支架，其中HL201 和HL202 提供用于光纤输出的SMA 接头，而HL203为自由空间输出。光源底部的两个M6 螺孔安装在Ø1 英寸接杆上。
每个光源包含一个滤光片支架。滤波片支架能安装*厚0.31 英寸(8.0 mm)的Ø1 英寸和Ø25 mm 光学元件，可以将带通滤光片插入光路中，用于要求特定波长下恒定光强照明的应用。另外，滤光片支架还能将样品安装在两块玻璃片之间，这样光源可用于材料分析。
可使用我们的平衡滤光片衰减光源输出中的红光，透过蓝光。这样光束的色温会更高而总功率会降低。
主要特性
可见光到红外波长的宽带光源
持续稳定的强度输出
闭环控制实现高稳定性
输出功率稳定性：小于 0.05%
色温稳定性：±15 K
10000 小时平均寿命
SMA 光纤接口或自由空间输出
可以安装Ø1 英寸和Ø25 mm 滤光片
低噪声风扇冷却
光源应用
HL201卤钨灯光源光谱范围360-2600 范围内恒定强度的10mW黑体辐射。由于该光源的黑体光谱范围覆盖了可见和近红外波段非常适合集成到光学测量与分析系统。可将光源与反射探头和分光计结合进行漫反射和荧光测量，或在探测器校准系统中将其作为背光照明。它也可在白光干涉仪中作为照明源，例如在标记表面结构的应用中。
HL202卤钨光源具有在450 和5500纳米之间的恒定强度黑体辐射光谱。由于该光源的黑体光谱范围覆盖了可见和中红外波段，因此非常适合集成到中红外测量与分析系统。光源前端的光纤转接件可拆卸和替换。
HL203 类卤钨灯光源光源具有在500 至9000 nm 间的恒定光强，>1.5 W 的黑体辐射光谱。由于该黑体光谱覆盖了可见光和中红外光谱范围，这个光源是集成到中红外测量和分析系统的理想选择。它使用了一个位于椭球反射器内的碳化硅棒，以增大光输出。一个CaF2 透镜准直光源发射的光。包含的自定义滤光片支架加工成匹配光源外壳的高度，并且也经过了红色阳极氧化处理。
技术参数
Item #
HL201
HL202
HL203
波长范围（Wavelength Range）
360 - 2600 nm
450 - 5500 nm
500 - 9000 nm
峰值波长（Peak Wavelength）
1000 nm
1500 nm
2400 nm
电功率（Bulb Electrical Power）
9 W
7.2 W
24 W
输出形式（Output Coupling）
Fiber Coupled (SMA) and Free Space
Free Space
光纤输出功率(Fiber-Coupled Optical Power)
10 mW
2 mW
N/A
自由光输出功率（Free-Space Optical Power）
500 mW
400 mW
>1.5 W
发散角（Beam Divergence without Fiber Coupler）
8.2°
13.8°
准直直径（Beam Diameter with Optional Collimator）
24 mm（选配）
10 mm（选配）
输出功率稳定性（Output Power Stability）
< 0.05%
色温（Color Temperature）
2796 K ±15 K
1900 K ±15 K
1500 K ±15 K
寿命（Lifespan）
10 000 Hours (平均Avg.)
外观尺寸Dimensions (L × W × H)
216.4 mm × 55.0 mm x 57.5 mm
209.1 mm × 55.0 mm x 57.5 mm