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什么是踏步机?
什么是踏步机?
什么是踏步机?
什么是踏步机?
步进曝光机是一种用于光刻(半导体和液晶制造工艺)的投射曝光设备。
随着IC电路图案的小型化,制作全尺寸光掩模图案变得困难。这是指在对大于实际尺寸的掩模图案进行缩小投影曝光时进行分步重复曝光的曝光设备
步进机是一种曝光设备,通过执行步进和重复来曝光整个待曝光区域。
步进机的使用
步进机用于半导体和液晶的制造,特别是用于光刻过程中使用掩模的曝光处理。
步进法包括步进重复法和步进重复法,其中,由于一次可以转移的面积较小,因此在步进时将晶圆顺序曝光;以及步进重复法,其中称为扫描仪的标线和存在一种使用步进机进行曝光的类型,该类型与步进机不同,并且可以将其视为扫描仪。
步进原理
为了对大直径晶圆和液晶进行高速缩小投影曝光,步进机使用短波长的光源以获得高分辨率,并将IC掩模图案投影并曝光在光罩上后,移动平台曝光晶圆的过程涉及重复多次图案曝光。步进机的内部结构包括曝光光源、投影镜头、晶圆台、晶圆装载机等。
随着IC大规模集成的需求,已开始使用波长较短的曝光光源。这是因为需要小型化,并且一般来说,用于曝光的光的波长越短,分辨率越高。在20世纪90年代,365 nm的i线是主要焦点,但此后波长变得更短,有Krf(波长248 nm)和Arf(波长193 nm)。
晶圆载物台是为了更快、更高效地制造IC和其他半导体而高速移动晶圆的载物台。除了高速移动之外,由于精细加工还需要高定位精度。晶圆装载机负责传送晶圆,例如从晶圆台上取出晶圆并将晶圆放置在其上。
异物的粘附是IC制造中的一大敌人,并且需要高速地将精密的晶圆移入和移出。步进机具有上述结构,一边使晶圆步进一边进行顺序曝光。
有关步进器的其他信息
1. 沉浸式体验
如今的步进机和扫描仪要求具有高精度,因此配备了大型机构,并且每台的价格也在不断上涨。因此,随着互连工艺节点的小型化,突然对光源或器件机制进行重大改变是不可取的,并且存在尝试通过几代改进来充分利用器件的倾向。
使这成为可能的技术之一是“液浸”。液浸是指通过在晶圆上的抗蚀剂和投影透镜之间插入纯水等溶液,从而相对于空气缩短光的波长来提高光源的曝光分辨率的方法。这是**光刻工艺中使用的技术之一。
2.EUV光刻
极紫外光刻(EUV 光刻)是下一代曝光技术的核心,适用于能够在 13.5 nm 波长下曝光的**多纳米工艺节点。全球主要的**工艺竞争的半导体制造商都在利用这项技术,但到2022年,全球将只有一家制造商能够将这种EUV光刻设备投入实际应用。