模型 | PPS-8200p1/8300p1 |
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晶圆尺寸 | 6/8/12英寸 |
解决 | 2.0 µmL/S(2.0 µm 抗蚀剂厚度) |
NA(数值孔径) | 0.16、0.1 变量 |
减速比 | 1:1 |
场地大小 | 52毫米×33毫米 |
曝光波长 | ghi-Line gh-line i-line(食谱链接) |
标线尺寸 | 6寸 |
叠加精度 | ≤0.5 µm(|平均|+3σ) |
设备尺寸/重量 | (宽)2,260 x (深)3,460 x (高)2,500mm / 5,500kg |
主要选项 |
背面对准系统 晶圆周边曝光系统 晶圆周边非曝光系统 薄晶圆输送系统 兼容GEM通信 内联兼容 |
企业信息
第1年
- 入驻时间: 2024-08-01
- 联系人:韩政
- 电话:17607554908
-
联系时,请说明易展网看到的
- Email:hz@ikedaya.cn
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产品详情
简单介绍:
池田屋ORC欧阿希 PPS-8200p1半导体曝光设备
池田屋ORC欧阿希 PPS-8200p1半导体曝光设备
宽带曝光(自动切换配方GHI线、GH线、I线联动)
配备变量NA功能(0.16和0.1变量)
标线设计格式*多 8 个区域
光学系统免受周围环境中的抗蚀剂脱气和化学物质的影响
详情介绍:
池田屋ORC欧阿希 PPS-8200p1半导体曝光设备
池田屋ORC欧阿希 PPS-8200p1半导体曝光设备
产品规格
规格
兼容各种应用
兼容WL-CSP、IGBT、CIS等6/8/12英寸光刻机