企业信息
第1年
- 入驻时间: 2024-08-01
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产品详情
简单介绍:
精品ORC欧阿希直接曝光设备RDi系列
精品ORC欧阿希直接曝光设备RDi系列
详情介绍:
精品ORC欧阿希直接曝光设备RDi系列
精品ORC欧阿希直接曝光设备RDi系列
用于柔性电路板的批量生产
需要**对准的柔性电路板和触摸面板细间距柔性基板、COF
RDi-10 Duo 用于电路形成
特征
通过支持双线流程(250mm 宽度 x 2 同时曝光),使生产率加倍10μm高分辨率我们独特的技术支持 20m 级别的长电路图案化。引入的效果已在现场得到证实,例如使高难度产品成为可能并提高产量。
连续曝光
基材:FCCL 250mm宽卷
L/S=15/15μ
基材:FCCL 250mm宽滚
蚀布线形成、曲线形成能力、PAD匹配
用于电路形成的 RDi-MP/RDi-MP Duo
用于电路形成 RDi-MP/RDi-MP Duo
特征
采用FDi光学系统进行精细图案形成。配备曝光模式切换功能(*参考FDi)RDi-MP Duo 支持卷基材双向流动
RDi-80 用于焊料形成
用于焊料形成 RDi-80
特征
配备UV灯作为光源,兼容阻焊剂和感光覆盖膜的感光波长。
产品规格
规格
光源有效曝光尺寸基材宽度解决吞吐量总体叠加精度RDi-10 双核半导体激光器635x520毫米250mm 宽 x 2 个水槽(500mm 宽 x 1 个水槽也可以)10μm长/秒38秒/平面@30mJ MD:500mm6μmRDi-MP半导体激光器515x260毫米250mm(*其他要求可协商)4μm长/秒45秒/平面@55mJ MD:515mm3.5μmRDi-MP 二重奏半导体激光器515x590毫米250mm宽x 2个主水槽(*其他要求可协商)4μm长/秒44秒/平面@50mJ MD:500mm3.5μmRDiー80紫外线灯635x520毫米250/500毫米30μm L/S / Φ80μm58秒/平面@150mJ 69秒/平面@200mJ MD:610mm7μm
用于柔性电路板的批量生产
需要**对准的柔性电路板和触摸面板细间距柔性基板、COF
电影
电影
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RDi-10 Duo 用于电路形成
用于电路形成 RDi-10 Duo
通过支持双线流程(250mm 宽度 x 2 同时曝光),使生产率加倍10μm高分辨率我们独特的技术支持 20m 级别的长电路图案化。引入的效果已在现场得到证实,例如使高难度产品成为可能并提高产量。
2线连续曝光
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基材:FCCL 250mm宽卷
L/S=15/15μm
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基材:FCCL 250mm宽滚
蚀布线形成、曲线形成能力、PAD匹配
用于电路形成的 RDi-MP/RDi-MP Duo
用于电路形成 RDi-MP/RDi-MP Duo
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特征
采用FDi光学系统进行精细图案形成。配备曝光模式切换功能(*参考FDi)RDi-MP Duo 支持卷基材双向流动
RDi-80 用于焊料形成
用于焊料形成 RDi-80
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特征
配备UV灯作为光源,兼容阻焊剂和感光覆盖膜的感光波长。
产品规格
规格
光源有效曝光尺寸基材宽度解决吞吐量总体叠加精度RDi-10 双核半导体激光器635x520毫米250mm 宽 x 2 个水槽(500mm 宽 x 1 个水槽也可以)10μm长/秒38秒/平面@30mJ MD:500mm6μmRDi-MP半导体激光器515x260毫米250mm(*其他要求可协商)4μm长/秒45秒/平面@55mJ MD:515mm3.5μmRDi-MP 二重奏半导体激光器515x590毫米250mm宽x 2个主水槽(*其他要求可协商)4μm长/秒44秒/平面@50mJ MD:500mm3.5μmRDiー80紫外线灯635x520毫米250/500毫米30μm L/S / Φ80μm58秒/平面@150mJ 69秒/平面@200mJ MD:610mm7μm