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用于柔性电路板的批量生产
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电影
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RDi-10 Duo 用于电路形成
用于电路形成 RDi-10 Duo
特征
- 通过支持双线流程（250mm 宽度 x 2 同时曝光），使生产率加倍
- 10μm高分辨率
- 我们独特的技术支持 20m 级别的长电路图案化。
- 引入的效果已在现场得到证实，例如使高难度产品成为可能并提高产量。
2线连续曝光
基材：FCCL 250mm宽卷
L/S=15/15μm
基材：FCCL 250mm宽滚
蚀布线形成、曲线形成能力、PAD匹配
用于电路形成的
RDi-MP/RDi-MP Duo
用于电路形成 RDi-MP/RDi-MP Duo
特征
- 采用FDi光学系统进行精细图案形成。配备曝光模式切换功能（*参考FDi）
- RDi-MP Duo 支持卷基材双向流动
RDi-80 用于焊料形成
用于焊料形成 RDi-80
特征
- 配备UV灯作为光源，兼容阻焊剂和感光覆盖膜的感光波长。
产品规格
规格
| 光源 | 有效曝光尺寸 | 基材宽度 | 解决 | 吞吐量 | 总体叠加精度 | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| RDi-10 双核 | 半导体激光器 | 635x520毫米 | 250mm 宽 x 2 个水槽（500mm 宽 x 1 个水槽也可以） | 10μm长/秒 | 38秒/平面@30mJ MD:500mm | 6μm |
| RDi-MP | 半导体激光器 | 515x260毫米 | 250mm（*其他要求可协商） | 4μm长/秒 | 45秒/平面@55mJ MD：515mm | 3.5μm |
| RDi-MP 二重奏 | 半导体激光器 | 515x590毫米 | 250mm宽x 2个主水槽（*其他要求可协商） | 4μm长/秒 | 44秒/平面@50mJ MD:500mm | 3.5μm |
| RDiｰ80 | 紫外线灯 | 635x520毫米 | 250/500毫米 | 30μm L/S / Φ80μm | 58秒/平面@150mJ 69秒/平面@200mJ MD:610mm | 7μm |