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丹佛斯压力传感器:华师应用分子印迹技术提升气体传感器性能-关注传感器技术动态

发布时间:2015-04-02

丹佛斯压力传感器:华师应用分子印迹技术提升气体传感器性能-关注传感器技术动态

从华中师范大学获悉,该校物理学院三名本科生将分子印迹技术应用于一氧化碳气体传感器的设计中,使传感器的灵敏度提高1.5倍,响应时间缩短30%,恢复时间缩短20%。该成果近日在全球材料研究和传感器领域主流学术杂志之一《传感器》上发表。

 

论文通讯作者黄新堂教授介绍,作为目前*热的研究领域之一——半导体纳米材料气体传感器,因为有着响应、恢复时间快,化学稳定性高和选择性显著的特点,被广泛应用于各种气体检测,在医疗诊断领域也发挥着一定作用。但在我国许多行业,高性能传感器有80%靠进口,以国产传感器代替进口产品已势在必行。该成果将具有高性价比和广阔市场。

成果**完**是本科生李忱家、吕梦、左佳林。李忱家说:“目前气体传感器研究正在飞速发展,大量研究致力于开发出新型纳米结构,也有研究侧重于寻找拥有*佳传感特性的纳米材料。然而这些方法工艺要求高、成本高昂。因此我们另辟蹊径,将类似于生物技术中受体识别的分子印迹原理应用到气体传感器的制备中,传感器性能大幅提升,为现有的气体传感器技术锦上添花。”

 

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