氢气炉主要用于半导体材料、纳米材料、光线材料等在氢气保护下的各种复杂工艺，具有多种工艺的流量控制。是科研、数学、生产、新材料研发的重要设备。用工业微机对工艺时间、温度、气体流量、阀门动作、反应室压库和实现自动控制。采用进口压力控制系统，闭环控制、稳定性高，采用进口耐腐蚀不锈钢管件、阀门确保气路密性。具有完善的报警功能及**互锁装置，具有良好的人机界面，灵活的工艺性能。
氢气炉的控制精度±1℃，工作温度为800~1700℃，温度均匀性±5℃。保护气体H2、N2，*大真空度-0.1Mpa，炉膛尺寸160×166马蹄形管（可定制）。电网电压380V±10％，*大功率≤80KW，炉门、进出料口材质310不锈钢，冷却系统分置出料口及加热炉体两侧。微电脑控制、操作方便、可编程、自动升温、自动保温、自动降温。报警功能超温报警、断水报警、断电保护。温度方式为自动和手动，进料方式为电动和手动，可以通多种气体氧气、氮气、氩气、氢气等。
氢气炉的炉体下面的氮气、氢气流量计的大小一般不用调整。在实验过程中，氮气、氢气之间的切换就只操作控制柜上的氮气、氢气阀按钮。为了保证氮气、氢气的正常输送，请注意气瓶上的低压表要有读数。在打开气瓶的一瞬间，就开始有读数并不代表气体就能正常输送，应不时地看看低压表，让其有读数。