上海升利测试仪器有限公司
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难溶金属硅PECVD设备[产品打印页面]

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  • 产品名称:难溶金属硅PECVD设备
  • 产品型号:PECVD设备
  • 产品展商:上海升利
  • 产品文档:无相关文档
  • 发布时间:2018-08-31
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简单介绍
难溶金属硅PECVD设备 PECVD (等离子体增强化学气相沉积) 设备用于太阳能电池、多晶硅薄膜电池研究,也可沉积氧化硅、氮化硅、多晶硅及难溶金属硅化物等多种薄膜。
产品描述

难溶金属硅PECVD设备
技术指标

· 系统极限真空度:≤6.67×10-5Pa
· 真空室尺寸Ф400mm×300mm
· 样品大小Ф100mm
· 热电偶闭环反馈控制加热温度 600℃±1℃
· 四路质量流量计进气
 

   应用领域

    PECVD (等离子体增强化学气相沉积) 设备用于太阳能电池、多晶硅薄膜电池研究,也可沉积氧化硅、氮化硅、多晶硅及难溶金属硅化物等多种薄膜。

   产品说明

    由PECVD室、上下电极、射频电源、样品加热台、泵抽系统、真空测量系统、电控系统、气路系统等组成。

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