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- 产品名称：小型滑动PECVD管式炉系统-OTF--1200X-50S-PE-SL
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- 发布时间：2018-03-30
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简单介绍
小型滑动PECVD管式炉系统-OTF-1200X-50S-PE-SL
产品描述
OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型的PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)，滑动式开启式管式炉系统。此套设备带有300W的等离子射频电源，一个炉管直径为50mm的开启式管式炉（带有真空法兰和连接管道）和机械泵组成。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD 系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索，此套系统极为理想。
技术参数
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名称
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小型滑动PECVD管式炉系统
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视频
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宣传视频
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特点
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与普通CVD相比可以在低温环境下进**相沉积实验
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可以通过炉体滑动达到快速升温和降温
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对于薄膜的应力可以通过射频电源的频率来进行控制
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通过工艺调节来控制化学计量
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可以沉积各种材料，如SiOx, SiNx, SiOxNy 和(a-Si:H) 等.
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开启式管式炉
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输入电源: 208 – 240V AC,功率： 1.2kW
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*高工作温度1200°C，小于60分钟
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炉膛保温材料采用高纯氧化铝多晶纤维，并且内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层，可以提高加热效率，反射率及延长仪器的使用寿命（点击文字了解涂层的详细参数）
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连续工作温度1100°C
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炉管采用高纯石英管：50mmOD x 44mmID x 1000mm L
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可设置30段升降温程序，并且带有过热和断偶保护功能
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加热区长度：200mm 单温区.
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恒温区2.3" (60mm) (+/-1°C) @ 1000°C 注：由于测量手段及外部环境的影响，测量结果可能会有偏差，此参数仅供参考不作为该设备的技术指标。您购买产品需要准确的恒温区数据，请与我公司销售人员联系
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以下图片显示加热区的温度曲线图
 (点击图片查看详细资料）
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等离子体射频电源
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输出功率: 5 -300W 可调 稳定性± 1%
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射频电源频率: 13.56 MHz 稳定性±0.005%
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*大反向功率: 200W
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匹配: 自动
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射频电源电子输出端口: 50 Ω, N型半导体, 阴极
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噪音: <50 dB.
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冷却: 风冷
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电源 : 208-240VAC, 50/60Hz
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真空法兰和接头
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真空法兰采用 304不锈钢制作.
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左端法兰上安装有 KF-25真空接口，2个KF-25快速卸装卡箍，KF-25直角阀，KF-25真空波纹管和1/4软管接头和不锈钢针阀
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真空泵及水冷机
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AC 220V 50 Hz 1/2HP 375W
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2 Liter /S
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出气端安装有油雾过滤器（防止油雾扩散到空气中，保护环境和人体健康）
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真空度: 10-2 torr
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可选水冷机
 
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产品尺寸和重量
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外形尺寸 1500mm x 600mm x 1200mm ( L x W x H)
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净重: 160kg
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质保期
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一年质保期，终身维护，（相关耗材除外，如炉管，密封圈等易耗件）
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 CE Certified
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使用注意事项
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工作时需连接水冷设备
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炉管内气压不可高于0.02MPa
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由于气瓶内部气压较高，所以向炉管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，建议在本公司选购减压阀，本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加****
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当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态
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进入炉管的气体流量需小于200SCCM，以避免冷的大气流对加热石英管的冲击
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石英管的长时间使用温度＜1100℃
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对于样品加热的实验，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开泄气阀，以防意外发生（如炉管破裂，法兰飞出等）
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