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- 产品名称：1英寸高真空磁控溅射头-HVMSS-SPC-1-LD
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- 产品展商：其它品牌
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- 发布时间：2018-03-30
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简单介绍
1英寸高真空磁控溅射头-HVMSS-SPC-1-LD
产品描述
HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头，可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配，以至于可以溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的结构设计，可提高镀膜质量。
技术参数
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特点
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采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作
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采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均强场分布
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磁体表面涂有一层保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用寿命
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标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配
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安装是采用标准真空接头，便于操作
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更换靶材较为简单，无需调整溅射头的高度
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配有一块铜靶
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溅射头
（点击图片查看详细资料）
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溅射头的直径:46.3mm
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所用靶的直径:1.0 ± 0.02"(25.4mm)
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靶材的*大厚度: 1/8" (3mm)
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磁环:NdFeB稀土永磁铁
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杆的直径: 3/4" O.D.
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所需功率
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DC (*大) 250 W
RF （*大）100 W
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*大阴极溅射电流
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3A
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阴极溅射电流
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200 - 1,000 V
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可选压力范围
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~1 mTorr 至1 Torr
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溅射厚度均匀性图
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注意：此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜，所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上，实验参数为：
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功率：直流150W
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真空环境：10mTorr(Ar)
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靶材与基片的距离：75mm
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水冷却
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所需水流量： 1/2 GPM
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进水温度：<20 ℃
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水管接头：0.25" O.D快插头
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接头
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电路连接接头：标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配
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本公司会赠送一高真空快速接头
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此快速接头的内径为0.75"，可将溅射头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装孔直径为1英寸，真空腔体的壁厚不得大于1英寸
  
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产品长度
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14英寸（355.6mm)
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产品重量
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1.36kg
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倾斜装置
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溅射头相对于杆*大可倾斜+/- 45度
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倾斜装置上有刻度线，可观察到靶头倾斜的角度
  
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可选配件
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循环水冷机，流量为16L / min ，水箱容积为6L
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本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套，让客户自己搭建磁控溅射仪
   
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质保期
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一年质保期终身维护
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应用
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在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜，下面是一些应用：
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薄膜涂覆
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半导体器件
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磁记录介质
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超导薄膜
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量子计算器件
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MEMS
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生物传感器
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纳米技术
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超晶格
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颗粒膜
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记忆合金
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组合薄膜沉积
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光学薄膜
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