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- 产品名称：1200℃多坩埚依次移动型管式炉--OTF-1200X-II-ZL
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- 发布时间：2018-03-31
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简单介绍
1200℃多坩埚依次移动型管式炉--OTF-1200X-II-ZL
产品描述
OTF-1200X-II-ZL是一款炉管可在炉管内部移动的（在真空气氛保护环境下移动）管式炉，*多可依次移动4个坩埚。特殊的坩埚推送机构，可将坩埚在炉管内推出后再拉回，让坩埚能做往返移动。坩埚移动位置&炉体的温度控制都采用一触摸屏控制。此款设备可进行物理化学混合沉积（HPCVD），快速热蒸发（RTE）等实验，特别适合制备多层二维晶体材料。
技术参数
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开启式管式炉
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双温区管式炉：两个独立的温控系统分别独立控制两个温区
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加热区长度：温区1:200mm, 温区2:200mm
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炉管材料：高纯石英
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炉管尺寸：外径: 60 ×内径: 54×长: 760 mm
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温度曲线图(两个温区设置在800℃时所测，仅供参考）
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*高工作温度：1200℃（<1hr)
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连续工作温度：1100℃
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控温精度：+/-1℃
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真空密封
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配有不锈钢密封法兰，上面安装有不锈钢截止阀和机械压力表
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进气端法兰接口为Φ6.35卡套接头，出气端法兰接口为KF25接口
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法兰密封圈采用水冷却，使用时需要通入冷却水，可在本公司选购循环水冷机
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真空度：10E-2 torr（采用机械泵），10-E5 torr(采用分子泵)
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坩埚移动机构（转轮式法兰）
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一根铠装热电偶通过左端法兰通入到炉管内部，并与坩埚相连接(图1)
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通过步进电机驱动使坩埚移动，并和热电偶和坩埚一起移动，实时监测样品的温度
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进气端法兰转轮式法兰（图2）
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可同时在转轮系统中放入4个坩埚，可交替将放入4种材料的石英坩埚自动送入到石英管中（可在真空状态或气氛保护状态进行运作）
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坩埚移动控制
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通过一步进电机控制坩埚移动的速度和位置
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可控制坩埚*小移动位移为1mm
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坩埚*大移动距离为200mm
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防腐型数显真空计
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配有一数显防腐型真空计
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当气压在10mbar以上时，不需因测量气体种类不同而进行系数转换
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对于气体的压力检测具有较高的**度和重复性
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因为传感器上镀有涂层，所以具有较好的抗腐蚀性
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测量范围：3.8x10-5 -1125 Torr
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混气系统
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此套设备中配有一2路混气系统
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*大输出功率：18W
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工作温度：5-45℃
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*大气压：3×106Pa
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精度：±1%FS
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质量流量计量程：
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1:0-100sccm
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2:1-199sccm
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可根据客户要求选购1-5路供气系统
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产品尺寸
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2400L×600W×1300mm H
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质保
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一年质保期，终生维护（不包含炉管，密封圈和加热元件）
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使用注意事项
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炉管内气压不可高于0.02MPa
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由于气瓶内部气压较高，所以向炉管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，建议在本公司选购减压阀，本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加****
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当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态
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进入炉管的气体流量需小于200SCCM，以避免冷的大气流对加热石英管的冲击
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石英管的长时间使用温度＜1100℃
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对于样品加热的实验，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开泄气阀，以防意外发生（如炉 管破裂，法兰飞出等）
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应用注意事项
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此款管式炉具有多种用途
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热蒸发：把蒸发料放在坩埚里，通过移动坩埚来**找到所需要的蒸发温度
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HPCVD：和热蒸发相似，可通入反应气体与蒸发的物料反应后再沉积
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可用于制作多层二维晶体
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