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主营:主营产品:Laurell匀胶机/旋涂仪、甩胶台、匀胶台、涂膜机、旋转涂敷仪, Harrick等离子清洗机,PPC微波等离子去胶机, SCE等离子去胶机,Diener等离子清洗机,Cargille光学试剂,恩科优光刻机/曝光机,Carver压片机/热压机,WABASH热压机,DAKE手压机,Alconox粉末清洁剂,EMS加热板/烤胶机,Matrix程序剪切仪/层压机,Matrix血糖试纸剪切仪,Novascan紫外臭氧清洗机,Uvocs臭氧清洗机,Uvitron紫外固化箱,Electro紫外固化箱,Wenesco加热板,Unitemp加热板,Semco快速退火炉等。
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产品详情

湿法刻蚀设备WS-1000-CP7-D

  • 如果您对该产品感兴趣的话,可以
  • 产品名称:湿法刻蚀设备WS-1000-CP7-D
  • 产品型号:WS-1000-CP7-D
  • 产品展商:其它品牌
  • 产品文档:无相关文档
  • 发布时间:2018-08-04
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简单介绍
Mycro湿法刻蚀设备是美国原装的湿法刻蚀设备。Mycro湿法刻蚀设备有标准型和更好的湿法刻蚀设备,标准型Mycro湿法刻蚀设备使用于一般要求,更好的Mycro湿法刻蚀设备具有优良性能,满足客户对湿法刻蚀设备的更高要求。半导体湿制成设备有不同型号,请根据具体需要选择半导体湿制成设备。推荐的半导体湿制成设备:WS-1000m湿法刻蚀设备
产品描述
湿法刻蚀设备一般信息
WS-1000系列旋转处理湿法刻蚀设备可以被配置成测试模块构造,安装简便,易于拆卸,更便于操作者控制。典型的WS-1000处理过程包括(但不限于):
涂敷
蚀刻
开发-/溶剂
清洗-/溶剂
确认,硫酸/双氧水(原样混合)
确认,HBr
温控开发
冲洗/烘干
可以根据要求采用更**的材料的湿法刻蚀设备
更好的湿法刻蚀设备
WS-1000-CP5 符合SEMI S93标准应用在消防**和洁净空间等领域。CP5符合UL94 V-O 火灾分类标准。它具有优良的平衡的物理性能,耐化学药品性和耐火性。
*佳的湿法刻蚀设备
WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合*严格的FMRC 4910测试标准,满足多方面条件下的难燃性,自熄特点和彻底燃烧。这种先进的材料也达到或超过产生低烟和*小毒副产品的检测标准。
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