产品目录
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- 美国4D动态光学干涉仪
- Chaona 3D光学轮廓仪
- FEI 电子显微镜
- Imago 三维原子探针
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- Bruker 能谱系统
- SNU
- WaveCatcher场地测量服务和工具
- 主轴跳动误差分析仪 主轴运动误差测试系统 主轴误差分析仪
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- MKS压力计
- MKS残余气体分析仪
- MKS远程等离子体源
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岱美公司收到了EVG6200NT光刻机的订单
日期:2024-12-23 13:27
浏览次数:2088
摘要:
岱美公司收到了EVG6200NT光刻机的订单,该客户来自华南地区知名的综合性大学,客户的科研能力和研究水平经过前两年的基础铺垫开始迅速提高。目前承担的科研任务以***项目为主,包括科技部提出的国家高技术重大研究计划项目(863),国家重大基础研究项目(973)和国家基金委的重大研究项目等,是973**科学家单位。客户购入此机台主要应用于TFT-LCD项目的研究与开发。
EVG6200NT是EVG公司2008年末才推出的新型号。
EV Group NT系列
新型: EVG620NT , EVG6200NT
EVG推出了新一代的EVG620NT和EVG6200NT系列曝光机——EVG620NT的曝光范围从*小5mm到150mm,EVG6200NT曝光范围从3英寸到200mm。EVGNT系列高质量的体现了新的技术发展水平,包括了一个花岗石底座,主动隔离防震平台和线性驱动位移马达使其可以达到更高的精度和产出。基于EVG灵活和多功能的曝光平台,在R&D和批量生产之间的工艺转换(手动模式到全自动)此新系统使用户可以轻松地得以实现。批量生产的实现和曝光精度的提高——达到0.1um,再加上实时曝光精度的检测系统(可选项),这样为用户提供了一个重要的更好的成本效益控制方案。