EVG推出用于EVG620HBL Gen II掩模对准系统

日期：2024-12-23 08:47

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摘要：

在SEMICON 2012展会期间，为半导体、微机电系统(MEMS)和纳米技术应用提供晶圆处理解决方案的全球**企业EVG隆重推出了用于高亮度发光二极管(HB-LED)批量生产的**代全自动掩模对准系统。

Gen II在发布**代EVG620HBL的一年后推出，提供一个工具平台，主要用于满足HB-LED客户的特定需求，以及市场对降低总所有权成本的不断要求。另外，EVG620HBL Gen II还优化了晶圆厂的工具足迹 —— 与竞争产品相比，每平方米洁净室空间的晶圆产出量提高了55%。

　　EVG620HBLGen II专为满足大批量制造环境中的具体客户要求而设计，包括如下特色：

　　? 增强型的显微镜可支持自动掩模图形搜索，从而进一步降低了掩模的设置与更换时间 —— 这两项改进对于支持大批量制造环境(HVM)环境中的连续设备生产都非常关键;

　　? 经过更新后的机器人处理版图设计具有晶圆映射功能，这为晶圆可追溯性方面的需求提供了支持;

　　? 对准能力(行对齐)有所提升，利用标记单个LED的网格进行定位，而不是需要那些占用晶圆上的宝贵空间的对准标记;

　　? 减少了系统占用，从而优化了操作的总拥有成本，并增加了每足迹晶圆指数。

　　与竞争产品相比，EVG620HBL Gen II的这些主要的功能增强优势带来了20%的加工晶圆单位成本的降低，并实现了业界*高的晶圆吞吐量，每小时可产出多达165个六英寸晶圆(在**印刷模式下，每小时晶圆产出可达到220个)。

欲要了解更多EVG产品知识，请致电岱美中国上海分公司：021-38613675

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