BeneQ TFS 200 原子层沉积薄膜系统岱美有限公司

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产品名称：BeneQ TFS 200 原子层沉积薄膜系统
产品型号：BeneQ TFS 200
产品厂商：BeneQ
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简单介绍：

BeneQ TFS 200 原子层沉积薄膜系统是适合科学研究和企业研发的*灵活的ALD平台。设备的每个细节都充分考虑了多功能，模块化和易用性。对倍耐克来说，让用户能够自由地开发工艺和各种应用而不是被设备所限制是非常重要的。TFS 200代表了*先进的设计理念和薄膜沉积解决方案，它可以实现在各种不同尺寸和不同基底材料上的高质量的薄膜制备。

详情介绍：

TFS 200 是适合科学研究和企业研发的*灵活的ALD平台。设备的每个细节都充分考虑了多功能，模块化和易用性。对倍耐克来说，让用户能够自由地开发工艺和各种应用而不是被设备所限制是非常重要的。TFS 200代表了*先进的设计理念和薄膜沉积解决方案，它可以实现在各种不同尺寸和不同基底材料上的高质量的薄膜制备。

TFS 200的衬底材料可以是硅片或其他平面基底材料，也可以是多孔材料，或是具有较高深宽比的复杂的三维物体。客户可以根据基底材料的不同选择三种标准的反应腔体，也可以按照客户的需要定制腔体。手动传送臂选项可以提高硅片的处理能力。作为标准可选项，我们也可提供直接和远程等离子增强型配置（PEALD）。TFS 200ALD可提供多种前驱体管路系统，*多可配置8个气态源管路，4个液态源管路和4个加热源管路；从而可以满足*苛刻的科研要求。热源包含*高加热源可达