产品目录
- EVG 晶圆封装工艺设备
- DELCOM薄膜电阻计
- FSM
- Schmitt 粗糙度测量仪
- MicroSense振动样品磁强计
- MicroSense电容式位移传感器
- Herzan
- Herz 防振台 隔振台
- Filmetrics光学膜厚测量仪
- 美国4D动态光学干涉仪
- Chaona 3D光学轮廓仪
- FEI 电子显微镜
- Imago 三维原子探针
- BrightSpot
- AEP
- BeneQ
- Bruker 能谱系统
- SNU
- WaveCatcher场地测量服务和工具
- 主轴跳动误差分析仪 主轴运动误差测试系统 主轴误差分析仪
- MKS流量计
- MKS压力计
- MKS残余气体分析仪
- MKS远程等离子体源
- SCI 等离子清洗设备
- Simax 步进式光刻机
- CERES
- CETR
- CleanLogix
- Dover
- Essemtec
- First Nano
- Gatan
- Honda Electronics
- Imago
- Invenious
- Kayex
- Laser Prismatics
- LESCO
- MAT
- mks
- n&K Technology
- nPoint
- Polyteknik
- ShB
- Solar Metrology
- SST
- Tailor
- Tau Science
- Thermo Noran
- VIC
- WestBond
- 其它
- 二手仪器及零件
联系我们
中文网站：www.dymek.cn
上海分公司：
021-38613675/38613676
东莞分公司：
0769-89818868
北京分公司：
010-62615731/62615735
香港总公司：
00852-24153601
产品详情
简单介绍：
MAT - 化学机械研磨机 (CMP) 及 其清洗设备
详情介绍：
MAT Inc. 成立于 1998年9月
12年研发、生产 CMP及 其清洗设备经验
用途广泛 : MEMS, SOI, 光学组件, HDD, SiC, Sapphire, 先进电路板、LCD 之生产 及CMP耗材及 IC制程之研发
晶圆大小由 1” ~ 12” 及 LCD 面板
可选人手及全自动样品加载载出
可选样品干入干出或湿入湿出
具多种终点侦测方式可供选择
清洗设备具 scrub cleaning, rinse, spin-dry and mega-sonic 功能
- 占日本 R&D CMP 市场超过70%
详细资料可参考www.j-mat.co.jp
12年研发、生产 CMP及 其清洗设备经验
用途广泛 : MEMS, SOI, 光学组件, HDD, SiC, Sapphire, 先进电路板、LCD 之生产 及CMP耗材及 IC制程之研发
晶圆大小由 1” ~ 12” 及 LCD 面板
可选人手及全自动样品加载载出
可选样品干入干出或湿入湿出
具多种终点侦测方式可供选择
清洗设备具 scrub cleaning, rinse, spin-dry and mega-sonic 功能
- 占日本 R&D CMP 市场超过70%
详细资料可参考www.j-mat.co.jp