产品目录
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- DELCOM薄膜电阻计
- FSM
- Schmitt 粗糙度测量仪
- MicroSense振动样品磁强计
- MicroSense电容式位移传感器
- Herzan
- Herz 防振台 隔振台
- Filmetrics光学膜厚测量仪
- 美国4D动态光学干涉仪
- Chaona 3D光学轮廓仪
- FEI 电子显微镜
- Imago 三维原子探针
- BrightSpot
- AEP
- BeneQ
- Bruker 能谱系统
- SNU
- WaveCatcher场地测量服务和工具
- 主轴跳动误差分析仪 主轴运动误差测试系统 主轴误差分析仪
- MKS流量计
- MKS压力计
- MKS残余气体分析仪
- MKS远程等离子体源
- SCI 等离子清洗设备
- Simax 步进式光刻机
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- 二手仪器及零件
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产品详情
简单介绍：
CETR - Model eCP-4 电化学机械研磨机
详情介绍：
全世界*大磨润设备生产商─CETR (Center For Tribology Inc.) ， 其*新推出之型号 eCP-4为世界开创兼具化学机械研磨及电化学机械研磨之桌上型机台。机台可用于 CMP , eCMP 制程之研究 及 有关消耗品之开发、研究。 全自动计算机控制系统，可实时分析各种检测器之讯号︰
芯片与研磨垫 或 垫与麿垫片(CMP pad conditioner) 之间动态摩擦系数量测，从而了解芯片之研磨速度及不均匀性
在电化学机械研磨应用时，可实时侦测电流强度及电压值
透过音频输出检测器 ( acoustic emission detector) 所测得之能量及峰值，可判断研磨强度及半导体薄膜上极微小之裂缝、脱落
可实时侦测研磨液及研磨垫之温度变化
可实时侦测研磨垫在研磨时或磨垫时之磨损深度(pad wear depth)