产品名称：Chaona NanoX 3D光学干涉轮廓仪

NanoX-2000采用白光垂直扫描干涉(VSI)、移相干涉技术(PSI)和单色光垂直扫描干涉测量(CSI)，实现对样品表面粗糙度、台阶高度、表面轮廓、关键部位尺寸及其形貌特征的纳米级三维精密测量。广泛应用于集成电路工艺、航空航天、太阳能电池工艺、材料表面工程、MEMS、超精密加工等领域。
 ● 测量精度重复性高

应用领域：

国内数家上市企业12寸产线配置NanoX-2000测试设备

NanoScopy 光机电一体化系统软件：
       ● 美国硅谷研发、中英文自由切换
       ● 光机电一体化软硬件集成
       ● 缩放、定位、平移、旋转等三维图像处理
       ● 自主设定测量阈值，三维处理自动标注
       ● 测量模式可根据需求自由切换
       ● 三维图像支持高清打印
       ● 菜单式参数设置，一键式操作，人机界面个性直观
       ● 个性化软件应用支持
       ● 可进行软件在线升级和远程支持服务

满足您需求而设计的测量设备

覆盖范围广： 兼容多种测量和观察需求

保护性： 非接触式光学干涉测量
可操作性：“一键式”操作更简单
智能化：特殊形状智能计算特征参数
个性化： 定制化测试报告

更好用户体验： 迅捷的售后服务，个性化应用软件支持

NanoX-2000/3000系列
测量模式	移相干涉（PSI）,白光垂直扫描干涉（VSI），单色光垂直扫描干涉（CSI）
样品台	150mm/200mm/300mm样品台（可选配） XY平移：± 25mm/150mm/200mm/300mm，倾斜：±5° 可选手动/电动样品台
CCD相机像素	标配：1280x960
视场范围	560x750um（10x物镜） 具体视场范围取决于所配物镜及CCD相机
光学系统	同轴照明无限远干涉成像系统
光源	高效LED
Z方向聚焦	80mm手动聚焦（可选电动聚焦）
Z方向扫描范围	精密PZT扫描（可选择高精密机械扫描，拓展达10mm）
纵向分辨率	<0.1nm
RMS重复性*	0.005nm, 1σ
台阶测量**	准确度≤0.75%；重复性≤0.1%，1σ
横向分辨率	≥0.35um（100倍物镜）
检测速度	≤35um/sec，与所选的CCD和扫描模式有关

 

中国计量院认证书：