SMS-400多靶磁控溅射镀膜设备 ￥215000
真空腔室：L400×W400×H450mm（1Cr18Ni9Ti 上等不锈钢），立式方形结构，前开门结构，方便取、放基片、更换靶材以及真空腔室日常维护；采用304上等不锈钢，所有焊缝连接均采用氩弧自动焊接技术，焊接完成后，镀膜腔室（包括抽气管道、连接法兰等）均进行内表面抛光处理，以减少“出气”量，有利于真空度的提高及耐腐蚀； 样品台：尺寸210×210mm，可旋转：0-20r/min可调，配有气动基片台挡板,可从室温加热至300℃；可选配偏压清洗功能； 真空系统：采用机械泵真空系统（RV8，8L/s），真空极限可达5.0×10^-1Pa（加热烘烤条件下）；真空测量采用单电阻真空计； 溅射靶：Φ4英寸2只（含靶挡板），靶角度及靶基距可调，各靶均有水冷（1P），保证各靶长时间稳定工作，兼容直流/射频电源溅射； 溅射电源：2台1000W全自动匹配射频溅射电源； 质量流量计：100sccm、50sccm 质量流量控制器各1套； 控制方式：采用PLC+触摸屏全自动控制系统； 前级阀：GDQ-40b 气动挡板阀；进气阀：Φ6mm，电磁截止阀；放气阀： Φ10mm，电磁截止阀；靶材：铜靶材Φ4英寸 报警及保护：对泵、磁控靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统