CIS400磁控离子溅射仪 ￥52800
1．溅射靶头采用平面磁控靶设计； 2．系统采用单片机等微处理器控制，全数字显示； 3．彩色液晶屏显示，屏幕不小于 5 英寸； 4．*大功率400W ; 5．溅射真空度可任意设定，且*小调节量 0.1Pa； 6．可存储不少于 3 种靶材的工作参数； 7．*长溅射时间不小于 800 秒； 8．⾦、铂、银、等常⽤⾦属靶材； 9．极限真空优于1Pa； 10.输入电压：220V/50Hz 11.溅射电压：600V 12．工作电流：5-45mA任意可调； 13．可用实时曲线显示溅射电流和真空度。 14.粒子颗粒大小：6-10nm 15.真空室：Ø130*130mm 高强度玻璃 16.靶材尺寸：Ø57*0.12mm（Pt）