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化学发光成像系统专用CCD特性解析

化学发光是物质在发生化学反应时产生的一种光辐射现象，根据其特性，在生物学领域中常被用来进行蛋白质与DNA的检测。化学发光成像系统相较具有高灵敏度、无材料损耗、自动曝光过程、电子图片存档等众多优势，但是，由于系统是依靠HRP或AP等特定的酶与底物结合来运作，因此所产生的光辐射比较微弱，相应的光信号的采集过程难度就大了不少。所以，想要获取到如此微弱的化学发光，就需要配置性能较高的CCD相机。

衡量CCD性能高低的指标，有分辨率、灵敏度、信噪比、动态范围等，而化学发光成像系统就需要CCD具有以高分辨率、高灵敏度、低噪声、宽动态范围等为主要参数的基本特性。也就是说，想要通过化学发光成像系统获取清晰的图像并进行精准的分析的话，CCD在选择上一定要满足相关特性。

高分辨率是重要的特性要求，是指在一定单位时间内，所获取的像素数目。而像素数目又是判定CCD好坏的重要指标，指的是CCD可以分辨到的小感光元件，一般来说，像素越高，感光性越好，成像也就越清晰。但是，并不是像素数目多了，就一定是性能好的CCD，还要看像素的大小。这是因为如果大小不变，数目增多的话，其排列就会变得密集，那么像素之间就越容易出现电流干扰，产生电流噪点。

噪点的出现、噪声的干扰都会直接影响到图像的成像质量，有效的调节像素尺寸与数量的关系就是防止噪声出现的手段，因此，低噪声也是非常重要的特性要求之一。化学发光成像过程中的噪声主要有读出噪声与热噪声两种，对于读出噪声，就要求CCD在电路设计上多进行优化，而在热噪声的降低上，就对CCD的制冷有了一定的要求了。经实验发现，曝光超过5-10秒时，CCD芯片就会开始发热，如果芯片没有制冷设备，白色的像素点就会遮盖图像，图像成像后会出现雪花。化学发光成像系统需要曝光的时间比较长，对制冷的要求更加的严格，所以，制冷CCD相机可以说是包括化学发光在内的所有分子成像分系统的发展趋势。

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