粒子成像测速原理和优点
基本原理
在流场中布撒示踪粒子，并用脉冲激光片光源入射到所测流场区域中，粒子成像测速通过连续两次或多次曝光，粒子的图像被记录在底片上或CCD相机上。采用光学杨氏条纹法、自相关法或互相关法，逐点处理PIV底片或CC 记录的图像，获得流场速度分布。因采用的记录设备不同，又分别称FPIV（用胶片作记录）和数字式图像测速DPW（用CCD相机作记录）。
优点
粒子成像测速技术的突出优点表现在：（1）是一种非接触式流动测量方法，突破了空间单点测量（如LDV）的局限性，实现了全流场瞬态测量；（2）实现了无扰测量，而用毕托管或HWFV等仪器测量时对流场都有一定的干扰；（3）容易求得流场的其他物理量，由于得到的是全场的速度信息，可方便的运用流体运动方程求解诸如压力场、涡量场等物理信息。因此，该技术在流体测量中占有重要的地位。
尊敬的客户：
本公司还有层析成像系统、全场应变DIC、相位多普勒粒子分析仪产品，您可以通过网页拨打本公司的服务电话了解更多产品的详细信息，至善至美的服务是我们的追求，欢迎新老客户放心选购自己心仪产品，我们将竭诚为您服务！