光谱单盘试样分析试样磨抛机

【设备概述】

专为光谱分析试样表面制备设计的精密设备，采用单盘单速结构设计，适用于光谱分析试样、金属、陶瓷、玻璃等材料的精密磨削与抛光处理。通过更换不同粒度的砂轮片及抛光织物，可完成从粗磨到镜面抛光的全流程操作，是光谱分析试样制备及金相研究的理想设备。

【核心优势】

1. 高效作业系统

配置φ400mm大尺寸磨抛盘，配合1400r/min恒定转速，确保表面处理精度

2. 智能操控设计

■ 三相五线制电源系统（AC380V±10%/50Hz）

■ 2.2kW高扭矩电机搭配动平衡校正技术

■ 嵌入式急停开关+过载保护装置

■ 工作噪音≤65dB（符合GB/T 3768标准）

【技术参数】

项目 | 规格参数

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磨抛盘直径 | φ400mm

主轴转速 | 1400±50r/min

功率配置 | 2.2kW

电源规格 | AC380V/50Hz（三相五线制）

外形尺寸 | 650×650×950mm（长×宽×高）

设备净重 | 93kg±2%

【应用场景】

适用于钢铁冶金、汽车制造、航空航天等领域的金相实验室，特别适合处理高硬度合金（HRC≥50）、复合材料及脆性材料的精密制样。配套不同夹具可扩展应用于棒材、管材等异型件的端面处理。

【产品实拍】