将封装好的器件放入密封实验箱,将光学干涉仪调整到观测封装的盖帽。然后将实验箱抽真空,同时用光学干涉仪观测盖帽是否变形。在视野内,同时观测每一只封装的盖帽是否随压力变化而变化。在减小的压力下保持时间T1,其盖帽有无继续变形。如果开始时随着实验箱压力改变,未检测到盖帽变形,或在实验箱压力保持恒定的情况下,检测到盖帽变形,则器件粗漏不合格,应该拒收。上述程序为光学粗检漏。
该实验也用于细检漏,其程序与粗检漏类似。具体做法是,前半段与粗检漏一样。在粗检漏实验程序完成后,再随实验箱用氦气加压,压力不大于2*10Pa。然后用光学干涉仪在时间T2观测其盖帽是否变形。若有变形,则器件细检漏不合格,应该拒收。
该发只适用于薄形盖帽封装(一般金属盖帽的厚度小于0.6MM)。实验灵敏度与盖帽变形的程度有关,即与盖帽的材料种类、几何尺寸有关,只符合下列数值的器件才能进行这种方法的检漏。
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